2000年8月1日に誕生したギガフォトンも、おかげさまで10周年を迎えることができました。

ひとえに、お客様 、サプライヤの皆様 、そして社員の家族 を始めとする多くの方々の ご支援とご協力のおかげです。

この場を借りて会社を代表して感謝申し上げます。

ご存知のとおり、半導体業界では1年半～2年毎に微細化技術を導入するために常に新しい技術チャレンジが要求されます。

リソグラフィ光源についてはこれまでi線からKrF、ArFへと短波長化を進めると同時にスペクトルの品質・周波数・出力を向上させる技術開発を続けてまいりました。

現在ではhp22nm以下のデザインルールを実現する ために不可欠な技術として、EUV光源の開発を進めています。

現在の当社の量産装置であるKrFおよびArFのエキシマレーザにおいては、高品質を維持しながらコスト削減に取り組む一方で、昼夜を問わない手厚いサポートで99%を上回る非常に高い稼働率を維持しています。

このようなダイナミックな事業環境の中、 何度も厳しい局面を迎えたギガフォトンではありますが、お客様およびサプライヤの皆様と社員との信頼関係を大切に育てながら、現在では全世界のおよそ半分のマーケットシェアを占める企業に成長することができました。

今後もNo.1の技術 と品質の 製品を提供し、 半導体産業と社会の発展に貢献していく所存です。

引き続きご愛顧・ご支援のほどよろしくお願い申し上げます。

代表取締役社長　渡辺 裕司