ギガフォトン株式会社は、コマツとウシオ電機のエキシマレーザ事業を統合した合弁会社として2000年に 設立された若い会社ですが、両社が培ってきたレーザ製品技術開発における長年の経験と実績を継承し ています。

コマツのレーザ技術の歴史は、エンジンの燃焼診断にCARS（Coherent Anti-Stokes RamanSpectroscopy：色素レーザ=Dye Laser）を用いたシステムを発売した、1980年までさかのぼります。これ以降、コマツはエキシマレーザの研究開発に移行し、1985年には日本初のエキシマレーザ装置KLE-630を発売、1987年には世界初の露光用エキシマレーザKLE-630Sを発売しました。

1984年　東京大学物性研とコマツでKrF,90Hzエキシマレーザを共同開発
(出典: 日本工業新聞)

コマツは1996年にエキシマレーザ事業部を発足後、1997年には栃木県小山市にエキシマレーザ生産 工場を設立。同年に量産型1 kHz KrFエキシマレーザ　KLES-G10K(現G10Kシリーズ)を発売しまし た。1998年には、2 kHz KrFエキシマレーザ　G20Kシリーズを発売し、日本・アジア地域を中心に順調 にシェアを伸ばしました。

2000年にギガフォトン株式会社を設立し、2001年に4 kHz　ArFエキシマレーザG40Aシリーズ、2002年に 4 kHz KrFエキシマレーザG40Kシリーズを発売しました。

2004年末には液浸ArF露光に対応するインジェクションロック方式ArFエキシマレーザGT40Aを発売し、 2005年には発振周波数が1.5倍の6,000 HzとなるGT60A、2006年にはスペクトル幅及び運用コストを 大幅に改善したGT61A、2007年には液浸二重露光に対応した90ワットの出力となるGT62Aと 次々と新商品を発売しております。

次世代光源(NGL)と期待されているEUV露光用光源の開発においては「技術研究組合極端紫外線 露光システム技術開発機構(Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association; EUVA)」に参加し、LPP方式の技術発展に大きく貢献しました。

2011年5月、コマツが当社の50%株式をウシオより買い取ったことにより、当社はコマツ の全額出資の子会社となり、EUV光源の量産実用化に向けて、製品開発に取り組んでいます。