ギガフォトンは2004年、インジェクションロック技術を採用した、ツインチャンバの量産型ArFエキシマレーザを世界に先がけて製品化しました。その後、露光装置の進化に伴い、液浸露光・ダブルパターニング露光に対応した最新型ArFエキシマレーザを次々と市場に供給し、ギガビット世代の超微細集積回路に対応するリソグラフィー技術の発展に貢献しています。

今日では、日本を含むアジア市場ではほとんど全ての半導体メー カーで製品が使用されているほか、欧米市場でも急成長を続けています。その結果、2000年の創立時に一桁だった世界市場でのマーケットシェアを僅か9年間で50%まで伸ばすという驚異的な躍進を遂げています。

また、2009年にはリーマンショックの影響で一時的に導入台数が減少したもの、2010年にはV字回復しております。

ギガフォトンは、今後ともグローバルレベルで着実な成長を続け、世界No.1のエキシマレーザサプライヤーとしての地位を確固たるものにすると同時にお客様の信頼を獲得し、その生産性向上に貢献するために邁進します。

ギガフォトンは、ArF露光の次世代候補(NGL)となるEUV露光の開発にも積極的に取り組んでいます。現在、技術研究組合極端紫外線露光システム技術開発機構(Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association; EUVA)の発足メンバーの1社として当初から参画し、露光用光源の開発において、重要な役割を担い、現在では、自社で次世代リソグラフィ光源であるEUV光源の量産化に向けて、製品開発に取り組んでいます。