ギガフォトンは2004年、インジェクションロック技術を採用した、ツインチャンバの量産 型ArFエキシマレーザを世界に先がけて製品化しました。その後、露光装置の進化に伴い 、液浸露光・ダブルパターニング露光に対応した最新型ArFエキシマレーザを次々と市場 に供給し、ギガビット世代の超微細集積回路に対応するリソグラフィー技術の発展に貢献 しています。

今日では、2000年の創立時に一桁だった世界市場でのマーケッ トシェアを僅か9年間で50%まで伸ばすという驚異的な躍進を遂げて います。これは日本を含むアジア市場でのシェアNo.1の地位を既に確固 たるものにしただけではなく、米国でのシェアが2009年には40%を越す見込みであることからも明らかです。

ギガフォトンは、今後ともグローバルレベルで着実な成長を続け、世界No.1のエキシマレーザサプライヤーとしての地位を確固たるものにすると同時に お客様の信頼を獲得し、その生産性向上に貢献するために邁進します。

ギガフォトンは、ArF露光の次世代候補(NGL)となるEUV露光の開発にも積極的に取り組んでいます。現在、技術研究組合極端紫外線露光システム技術開発機構(Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association; EUVA)の発足メンバーの1社として当初から参画し、露光用光源の開発において、重要な役割を担っています。