ギガフォトンは2004年、インジェクションロック技術を採用した、ツインチャンバの量産 型ArFエキシマレーザを世界に先がけて製品化しました。その後、露光装置の進化に伴い 、液浸露光・ダブルパターニング露光に対応した最新型ArFエキシマレーザを次々と市場 に供給し、ギガビット世代の超微細集積回路に対応するリソグラフィー技術の発展に貢献 しています。

2003年以降マーケットシェアを大きく伸ばし、日本を含むアジア市場ではエキシマレーザ のトップ企業として認知されているほか、欧米市場でも急成長を続けています。

ギガフォトンは、ArF露光の次世代候補(NGL)となるEUV露光の開発にも積極的に取り組んでいます。現在、技術研究組合極端紫外線露光システム技術開発機構(Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association; EUVA)の発足メンバーの1社として当初から参画し、露光用光源の開発において、重要な役割を担っています。