營運實績與預估


2004 年,GIGAPHOTON 領先世界,實現採用注入鎖定(Injection-locked)技術的雙腔量產型 ArF 準分子雷射裝置商品化。其後因應曝光裝置的進步,持續向市場供應支援浸潤曝光、雙重曝影等技術的最新型 ArF 準分子雷射裝置,於 Gigabit 世代超微積體回路的微影技術發展多有貢獻。 時至今日,除獲得包含日本的亞洲市場幾近全數半導體業者的青睞外,更在歐美市場持續高度成長。其結果,2000 年創立當時僅不到一成的全球市佔率躍升至如今的近 50%,表現令人驚異。 今後,GIGAPHOTON 以全球 No.1 準分子雷射設備供應商身份,期許於全球紮實成長,贏得客戶信譽,並就生產性提升做出貢獻。<

著手於次世代曝光技術

GIGAPHOTON 對於次世代曝光技術的有力接班人--極端紫外光源(EUV)也積極著手開發。2002年至2010年於技術研究組織極紫外線曝光系統技術開發機構(Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association: EUVA))擔任發起會員,在曝光光源開發扮演重要角色。GIGAPHOTON 目前開發採用脈衝雷射照射目標物,發生高溫電漿以產生 EUV 同步輻射的雷射生成電漿(Laser Produced Plasma: LPP)方式 EUV 光源。目前已進入量産機發階段,穩定獲致成果。