公司歷史

GIGAPHOTON 株式會社創立於 2000 年,可說是頗為年輕的公司,卻是繼承小松製作所在雷射產品技術開發方面經年培養的經驗與實績。

小松製作所的雷射技術歷史濫觴,可上溯至1980年開始銷售用於引擎燃燒診斷的 CARS(Coherent Anti-Stokes RamanSpectroscopy:染料雷射=Dye Laser)系統。此後,小松製作所轉而研發準分子雷射,1985 年推出日本首部準分子雷射裝置 KLE-630,1987 年推出全球首台曝光用準分子雷射裝置 KLE-630S。

東京大學物性研與小松製作所共同研發 KrF,90Hz 準分子雷射

1984 年 東京大學物性研與小松製作所共同研發
KrF,90Hz 準分子雷射。
(出典: 日本工業新聞)

1996 年,小松製作所創設準分子雷射事業部,復於 1997 年在栃木縣小山市興建準分子雷射裝置生產工廠。同年並推出量産型 1 kHz KrF 準分子雷射 KLES-G10K(目前的 G10K 系列)。1998年,推出 2 kHz KrF 準分子雷射裝置 G20K 系列,順利打開日本及亞洲區的市佔率。

2000年起設立 GIGAPHOTON 株式會社,2001 年推出 4 kHz ArF 準分子雷射裝置 G40A 系列,2002 年推出 4 kHz KrF 準分子雷射裝置 G40K 系列。

2004 年底推出支援浸潤 ArF 曝光的注入鎖定式 ArF 分子雷射 GT40A,更接連於 2005 年推出震盪頻率達 1.5 倍之 6,000 Hz 機種 GT60A;2006 年推出大幅改善頻譜頻寬及營運成本的機種 GT61A;2007 年推出支援浸潤雙重曝光、輸出達 90W 的機種 GT62A,新產品不斷問世。

作為次世代微影光源備受矚目的 EUV 光源開發方面,更加入「技術研究組織極紫外線曝光系統技術開發機構(Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association; EUVA)」,對於 LPP 方式技術發展有著卓越貢獻。

準分子雷射技術歷史與 GIGAPHOTON 公司沿革(年表)


  • 全球首度成功激發準分子雷射(蘇聯)

  • 小松製作所推出應用 CARS(Coherent Anti-Stokes Raman Spectroscopy)技術之引擎燃燒診斷系統

  • 小松製作所推出 KrF 準分子雷射裝置 KLE-630(日本首台準分子雷射裝置)

  • 小松製作所推出 KLE-630S(2 W):全球首部曝光用 KrF 準分子雷射裝置

  • Lambda Physik 公司涉入曝光用準分子雷射市場

  • Cymer 公司涉入曝光用準分子雷射市場

  • 小松製作所創設準分子雷射事業部

  • 小松製作所於小山興建準分子雷射裝置生產工廠

  • 創立 GIGAPHOTON 株式會社

  • GIGAPHOTON 設立美國分公司「GIGAPHOTON USA INC.」

  • GIGAPHOTON 因注入鎖定 ArF 準分子雷射裝置 GT62A,榮獲第一屆雷射學會產業獎系統部門「優秀獎」

  • GIGAPHOTON 於 EUV 光源輸出達成超越 100W 的成果

  • GIGAPHOTON 設立 100%出資的荷蘭現地法人「GIGAPHOTON EUROPE B.V.」,並展開事業活動

    GIGAPHOTON 的曝光用準分子雷射裝置出貨量累計達到 1,000台

  • GIGAPHOTON 設立 100%出資的韓國現地法人「GIGAPHOTON KOREA INC.」,並展開事業活動

    GIGAPHOTON 設立 100%出資的臺灣現地法人「極光先進雷射股份有限公司(Gigaphoton Taiwan Inc.)」,並展開事業活動

  • GIGAPHOTON 設立新加坡子公司,展開事業活動