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ネオンガス供給危機に対応する3つのプログラムで産業界に貢献

栃木県小山市; 2015年7月8日—リソグラフィ光源の主要メーカーであるギガフォトン株式会社(本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 都丸仁)は、現在実施中の、2014年11月に発表した同社のArF液浸レーザー「GTシリーズ」向けガス消費量削減技術「eTGM」の期限付き無償提供(*1)に引き続き、この度、同社の全レーザー機種に対応したネオンガス消費削減のための包括パッケージ、「ネオンガスレスキュープログラム」を開始したと発表しました。

現在、半導体製造プロセスで使用するArF、KrFレーザーに用いられるレーザーガスの、バッファガスであるネオンは、主な産出国であるウクライナの政情不安が未だ続いていることもあり、近年から問題となっている供給減少が依然として大きな懸念事項となっています。その懸念は価格上昇のみならず、2015年中に市場でも不足が起こるのではないかというところまで広がっています。(*2)これは世界のネオンガスの主要な消費者である半導体産業にとって安定生産を損なう危機的状況といえます。

この事態をうけ、ギガフォトンでは、顧客の安定した大量生産をサポートするため、ネオンガス供給危機に対応する包括パッケージ「ネオンガスレスキュープログラム」の提供を開始することを決定しました。このパッケージでは次の3つのプログラムを提供いたします。

1つ目は顧客が指定した新規ガス供給メーカーの、当社での採用評価を短期間で実施するプログラムです。従来、新規メーカー供給のガスの採用評価には6ヶ月~1年の期間を要しますが、本プログラムでは1ヶ月で新規ガス供給メーカーのレーザーガスを使用することが可能になります。

2つ目は「eTGM」をKrFレーザー「G41Kシリーズ」およびArFレーザー「GT40Aシリーズ」にも適用し、2015年11月から期限付き無償提供する(*1)プログラムです。eTGM導入によりKrFレーザーおよびArFレーザーで最大25%、ArF液浸レーザーで最大50%のネオンガス削減が可能になります。

3つ目は全レーザー機種に対応する最新ガスリサイクルシステム、「hTGM」の提供プログラムです。これは2016年より順次開始する予定です。この「hTGM」を用いることで、ガス消費量は最大50%までリサイクルすることが可能になります。

これら3つを合わせた包括的パッケージ、「ネオンガスレスキュープログラム」の提供によりギガフォトンはネオンガス供給サポートならびに消費量の低減を実現し、ネオンガス供給危機を危惧する半導体産業界に対して、安定生産のサポートをいたします。

ギガフォトン代表取締役社長兼CEOの都丸仁氏は、こう述べています。「ネオンガスは半導体製造において欠かせないガスであるため、今回のように長引く供給危機は生産継続をおびやかす非常に重大な問題ととらえています。ギガフォトンは、新規ガスベンダーの早期適用、ガス使用量の大幅削減、ガスリサイクル技術の早期導入の3本柱でお客様の安定生産を全力で支えて参ります。」

(*1)無償提供はネオンガス供給への懸念が払しょくされるまでの間とし、終了はギガフォトンが決定するものとします。ニュースリリースに記載されている情報は発表時のものであり、予告なしに変更される場合があります。

(*2)当社調査による。

eTGMに関する過去のニュースリリース

ギガフォトンについて

2000年に設立されて以来、ギガフォトンはアジア全体、米国およびヨーロッパ地域の主要半導体メーカーのための、ユーザーフレンドリーで高性能なDUVレーザー光源を開発・供給してきました。

ギガフォトンは、生産性と費用対効果が重要な大量生産(HVM)において必要とされる、優れたリソグラフィ光源を供給する世界No.1企業になるよう努力しています。常にエンドユーザのニーズに焦点をあて、研究開発から製造まですべての局面において、業界最高の信頼性と世界水準の顧客サポートを目指しています。詳細については、www.gigaphoton.comをご覧ください。


 

報道関係者向けの連絡窓口:

ギガフォトン株式会社
経営企画部
TEL: 0285-37-6931
E-MAIL: web_info@gigaphoton.com[:en]

Comprehensive Package Developed by Gigaphoton to Address the Neon Gas Supply Crisis

OYAMA, Japan: July 8, 2015 – Gigaphoton, Inc., a leading manufacturer of lithography light sources has announced the launch of a “Neon Gas Rescue Program” – a comprehensive package consisting of three programs that include: the rapid qualification of new gas vendors; a limited-time, free-of-charge(*1) implementation of Gigaphoton’s eTGM technology for reducing neon gas usage; and the accelerated introduction of “hTGM” – the company’s newest gas recycling technology. The “Neon Gas Rescue Program” was developed by Gigaphoton to provide customers with immediate assistance in addressing the growing challenges in supply and cost of neon gas, critical to sustaining a stable high-volume manufacturing environment.

Neon is used as a buffer gas for Argon (Ar) and Krypton (Kr) gases used in lasers for semiconductor manufacturing. While the Ukraine is the main producer of neon gas today, due to the country’s ongoing crisis, supply reduction has become an issue and is causing increasing concern. This concern is not only based on price increases, but has escalated to the point of supply shortages in 2015(*2). This poses a critical situation for the semiconductor industry, which represents the leading consumer of neon gas in the world.

To combat this crisis, Gigaphoton has already announced in November of 2014, a limited, free-of-charge offer of its eTGM technology for all new and existing GT series ArF immersion lasers.  The “Neon Gas Rescue Program” expands this offer to a more comprehensive package that includes the following:

1. A program for rapid qualification of new gas suppliers requested by customers. Previously, testing and qualification of a new gas supplier required anywhere from six to twelve months, but this new program will enable customers to begin using new gas suppliers in as fast as one month.

2.A limited, free-of-charge(*1) offer of Gigaphoton’s eTGM technology will also be extended to the G41K series KrF lasers and GT40A series ArF lasers. This extended offer will commence in November 2015. By introducing eTGM, customers will be able to reduce the laser’s neon usage by 25 percent on KrF and ArF lasers, and up to 50 percent on ArF immersion lasers.

3. The accelerated introduction of Gigaphoton’s newest gas recycling technology, hTGM. This technology is applicable to all laser types. hTGM is expected to begin roll-out in 2016. By implementing the hTGM technology, customers will be able to recycle up to 50 percent of their gas consumption.

(*1) Free-of-charge period will continue until Gigaphoton determines the neon gas supply issue has been resolved. The information contained in this news release is based on what was available prior to the time of the announcement and may change without notice.
(*2) According to a studies performed by Gigaphoton.

Prior News Releases About eTGM


 

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Gigaphoton制定综合性方案解决氖气供应危机

日本小山, 2015年7月8日–领先的光刻光源制造商Gigaphoton, Inc.宣布推出“氖气救援计划”。该综合性方案包括以下三项措施:为新的气体供应商提供快速资质认证;限时免费(*1)使用Gigaphoton的eTGM技术以减少氖气使用;加速推出公司最新的气体回收技术hTGM。“氖气救援计划”由Gigaphoton制定,用于立即帮助客户应对氖气供应和成本方面日益严峻的挑战,这对维持稳定的高产环境至关重要。

氖气是激光器中氩气(Ar)和氪气(Kr)的缓冲气体,用于半导体的制造。目前乌克兰是氖气的主要生产国,但由于国内危机持续不断,氖气供应减少已成为一个突出问题且正在引起人们的普遍担忧。担忧的原因不仅在于氖气价格上涨,也包括 2015年开始的供应短缺问题(*2)。对于作为全球氖气主要消费者的半导体行业而言,这是一个严峻的局面。

为应对这次危机,Gigaphoton早在2011年11月便宣布为所有新的和现有的GT系列ArF浸没式激光器提供eTGM技术的限时免费使用。“氖气救援计划”在此基础上提供了更全面的方案,内容包括:

  1. 为客户要求的新气体供应商提供快速的资质认证方案。以前,新气体供应商需要六至十二个月才能完成测试和资质认证。但现在根据新方案,客户最快只需一个月时间便可使用新的气体供应商。
  2. Gigaphoton限时免费的(*1) eTGM技术也将扩展到G41K系列KrF激光器和GT40A系列ArF激光器。这一扩展计划将于2015年11月启动。通过引进eTGM技术,KrF和ArF激光器可减少25%的氖气用量,ArF浸没式激光器可减少高达50%的氖气用量。
  3. 加速推出Gigaphoton最新的气体回收技术hTGM。该技术适用于所有类型的激光器。hTGM预计于2016年上市。采用hTGM技术后,客户将可以回收高达50%的消耗气体。

Gigaphoton 总裁兼首席执行官 Hitoshi Tomaru表示:“氖气是半导体制造业不可或缺的气体,我们认识到在当前情况下,持续的供应危机是一个极为严重的问题,将会严重威胁生产的连续性。Gigaphoton将尽一切努力来支持客户的稳定生产,为此我们推出了三大措施:为气体供应商提供快速资质认证、大幅减少气体使用及尽早推出气体回收技术。”

(*1) 免费导入期将持续到Gigaphoton认定氖气供应问题已得到解决为止。该新闻稿中的内容基于新闻稿发表前所掌握的信息,内容如有变更,恕不另行通知。
(*2)据Gigaphoton开展的一项研究所知。

之前有关eTGM的新闻稿

免责声明:本公告之原文版本乃官方授权版本。译文仅供方便了解之用,烦请参照原文,原文版本乃唯一具法律效力之版本。


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Gigaphoton制定綜合性方案解決氖氣供應危機

栃木県小山市, 2015年7月8日–微影光源主要製造商Gigaphoton, Inc.(本社: 栃木県小山市 總裁兼執行長:都丸 仁) 繼2014年11月發表ArF浸潤式雷射「GT Series」減少 Gas使用量的技術「eTGM」限時免費(*1)計畫之後,再次宣布推出全機種雷射「氖氣救援計畫」。

目前應用於半導體製程中的ArF 和 KrF雷射的緩衝氣體為氖氣,目前烏克蘭為氖氣的主要生產國,但由於國內危機持續不斷,近年來氖氣供應減少已成為一個突出問題且正在引起人們的普遍擔憂。擔憂的原因不僅在於氖氣價格上漲,同時2015年的供應開始擴大為是否會有短缺的疑慮(*2)。對於作為全球氖氣主要消費者的半導體產業而言,這是一場嚴峻的局面。

因應這次危機,Gigaphoton為了提供客戶穩定生產的支援及解決氖氣供給危機,將推出「氖氣救援計畫」的配套措施,此配套措施包含了以下三個計畫

  1. 為客戶要求的新氣體供應商提供快速的資格認證方案。以前,新氣體供應商需要六至十二個月才能完成測試和資格認證。但現在根據新方案,客戶最快只需一個月時間便可使用新的氣體供應商。
  2. Gigaphoton限時免費的(*1) eTGM技術也將擴展到G41K系列KrF雷射器和GT40A系列ArF雷射器。這一擴展計畫將於2015年11月啟動。透過引進eTGM技術,KrF和ArF雷射器可減少25%的氖氣使用量,ArF浸潤式雷射器可減少高達50%的氖氣使用量。
  3. 加速推出Gigaphoton最新的氣體回收技術hTGM。該技術適用於所有類型的雷射器。hTGM預計於2016年上市。採用hTGM技術後,客戶將可以回收高達50%的消耗氣體。

結合以上三項配套措施「氖氣救援計畫」,Gigaphoton將提供針對降低氖氣消費量的支援及身受氖氣供給危機的半導體業界提供更安定的生產支援。

Gigaphoton 總裁兼執行長 都丸 仁表示:「氖氣是半導體製造業不可或缺的氣體,我們認識到在當前情況下,持續的供應危機是一個極為嚴重的問題,將會嚴重威脅生產的連續性。Gigaphoton將盡一切努力來支援客戶的穩定生產,為此我們推出了三大措施:提供快速氣體供應商資格認證、大幅減少氣體使用及儘早推出氣體回收技術。」

(*1) 免費期將持續到Gigaphoton認定氖氣供應問題已得到解決為止。該新聞稿中的內容根據新聞稿發表前所掌握的資訊,內容如有變更,恕不另行通知。
(*2) 根據Gigaphoton展開的一項研究。

之前有關eTGM的新聞稿

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기가포톤, 네온가스 공급위기 해결을 위한 종합 패키지 개발

오야마, 일본, 2015 년 7 월 8 일– 세계적 리소그래피 광원 제조사인 기가포톤 (Gigaphoton Inc.)이 “네온가스 공급위기 구조 프로그램”의 출시를 발표했다. 이 포괄적 패키지는 △새로운 가스 공급 업체의 신속한 자격획득 △네온가스 사용량을 줄이기 위한 기가포톤의 eTGM기술 일정기간 무료시행(*1) △회사의 최신가스 재활용 기술인 hTGM 의 도입 가속화 이 세 가지 프로그램으로 구성되었다. 기가포톤은 안정적인 대량생산환 경 유지에 필수적인 네온가스의 공급과 비용 면에서 점증하고 있는 문제를 해결하여 고 객에게 즉각적인 지원을 제공하기 위해 “네온가스 공급위기 구조 프로그램”을 개발했다.
네온은 반도체 제조를 위해 레이저에 사용되는 아르곤(AR) 및 크립톤(Kr) 가스를 위한 완충가스로 사용된다. 우크라이나는 오늘날 네온 가스의 주요 생산국이지만 국가의 지속 적인 위기로 인해 공급감소가 문제가 되었고 우려가 점차 증대되고 있다. 이는 가격상승 이 원인이며 2015년에는 공급이 부족한 지경까지 악화되었다(*2). 이로 인해 세계 네온 가스의 주요 소비주체인 반도체 산업에 중대한 상황이 발생하고 있다.
이 위기에 대처하기 위해 기가포톤은 이미 2011년 11월 모든 신규 및 기존 GT시리즈 ArF 액침레이저에 대해 eTGM 기술을 한시적으로 무료제공 하겠다고 발표했다. “네온가 스 공급위기 구조 프로그램”은 다음을 포함하여 보다 포괄적인 패키지를 확장 지원한다.

  1. 고객이 요청한 신규 가스 공급업체의 신속한 자격 취득 프로그램. 이전에는 신규 가 스 공급업체의 시험 및 자격취득에 6~12개월이 소요되었지만 이 새로운 프로그램으로 인해 고객은 1개월이라는 빠른 시간 안에 신규 가스공급업체를 이용할 수 있다.
  2. 한시적으로 무료 제공되는 기가포톤의 eTGM 기술은 또한 G41K 시리즈의 KrF 레이 저와 GT40A 시리즈의 ArF 레이저로 확장될 예정이다. 이 확장 제공은 2015년 11월에 시작된다. eTGM을 도입함으로써 고객은 KrF과 ArF 레이저에서 네온 사용량을 25 % 줄 일 수 있으며,ArF 액침 레이저의 경우 50%까지 줄일 수 있다.
  3. 기가포톤의 최신 가스 재활용기술 hTGM의 도입 가속화. 이 기술은 모든 레이저 유형에 적용 가능하다. hTGM은 2016년 출시될 예정이다. hTGM 기술을 실행함으로써 고객 은 가스 소비량의 50 %까지 재활용 할 수 있게 된다.

토마루 히토시(Hitoshi Tomaru) 기가포톤 사장 겸 최고경영자(CEO)는 “네온은 반도체 제조를 위한 필수불가결한 가스이며 우리는 이러한 상황하에서 지속되는 공급 위기가 생 산의 연속성을 위협하는 매우 심각한 문제임을 인식하고 있다”며 “기가포톤은 고객을 위 한 안정적인 생산을 지원하기 위하여 가스 공급 업체의 신속한 자격취득과 가스사용량의 상당한 감소 그리고 가스 재활용 기술의 조기 도입이라는 세 가지를 핵심으로 가능한 모 든 노력을 다 할 것이다”고 말했다.

(*1) 네온가스 공급문제가 해결 됐다고 기가포톤이 확정할 때까지 무료제공 기간은 계속 될 예정이다. 이 보도 자료에 포함 된 정보는 발표시간 이전에 가능했던 것을 기반으로 하며 사전 통보 없이 변경 될 수 있다.

(*2) 기가포톤이 수행한 연구 기준

eTGM 관련 이전 보도자료

[이 보도자료는 해당 기업에서 원하는 언어로 작성한 원문을 한국어로 번역한 것이다. 그러므로 번역문의 정확한 사실 확인을 위해서는 원문 대조 절차를 거쳐야 한다. 처음 작성된 원문만이 공식적인 효력을 갖는 발표로 인정되며 모든 법적 책임은 원문에 한해 유효하다.]


 

연락처

기가포톤(Gigaphoton Inc.)
그룹 경영기획실(Corporate Planning Division)
Tel: +81-(0)285-37-6931
E-Mail: web_info@gigaphoton.com[:]