경영 실적ㆍ예측


기가포톤은 2004년에 인젝션 락 기술을 채용한 트윈 체임버의 양산형 ArF 엑시머 레이저를 세계에 앞서 제품화했습니다. 그 후 노광장치의 진화에 따라 액침 노광ㆍ더블 패터닝 노광에 대응한 최신형 ArF 엑시머 레이저를 잇따라 시장에 공급하는 등 기가비트 세대의 초미세 집적 회로에 대응하는 리소그래피 기술 발전에 공헌하고 있습니다. 오늘날에는 일본을 포함한 아시아 시장의 거의 모든 반도체 제조업체에서 당사의 제품을 사용하고 있을 뿐만 아니라, 미국 및 유럽 시장에서도 급성장을 거듭하고 있습니다. 그 결과, 2000년 창립 당시 한 자릿수였던 세계 시장 점유율은 50% 가까이까지 이르는 등 경이로운 약진을 이룩했습니다. 기가포톤은 앞으로 세계적으로 착실히 성장을 거듭하여 세계 No.1의 엑시머 레이저 공급업체로서 고객의 신뢰를 얻는 등 그 생산성 향상에 기여하고자 합니다.

차세대 노광 기술 개발에 노력하다

기가포톤은 차세대 노광 기술로 유력한 극자외선 (EUV) 광원 개발에도 적극적으로 노력하고 있습니다. 2002년부터 2010년까지 기술연구조합 극자외선 노광 시스템 기술개발기구 (Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association: EUVA)) 의 발족 멤버로서 노광용 광원 개발 분야에서 중요한 역할을 담당했습니다. 기가포톤은 타겟에 펄스 레이저를 조사하여 발생하는 고온 플라스마에서 EUV 방사광을 생성하는 레이저 생성 플라스마 (Laser Produced Plasma: LPP) 방식을 채용한 EUV 광원을 개발하고 있습니다. 현재 양산기 개발 단계에 있으며, 순조롭게 성과를 올리고 있습니다.