2011年11月、ギガフォトンは、DUVエキシマレーザ光源が一つの節目となる通算1,000台の出荷を達成しました。 2012年の新年のスタートとして、1月11日に1,000台出荷を全社員で祝う記念式典を開催しました。1,000台に至るまでには、何度もつらく厳しい局面がありましたが、我々はそれをネバーギブアップとチームワークの精神で乗り越えてきたことを誇りに思うとともに、当社の製品に対するお客様の絶大なる支持に深く感謝します。

ギガフォトンは、昨年11月日本の大手半導体メーカーに、1,000台目のDUVレーザ光源を出荷しました。この光源は最先端のダブルパターニング液浸リソグラフィプロセス向けの最新モデルGT62Aです。ギガフォトンの前身であるコマツが1987年に世界初の露光用エキシマレーザ装置KLE-630Sを発売以来、半導体の微細化に伴うリソグラフィ技術の進化とともに、1997年よりハーフピッチ250 nm以下のデバイスの量産化を実現したKrFエキシマレーザ（波長248 nm）G10K、2001年にはシングルチャンバタイプのArFエキシマレーザ（波長193 nm）G40A、2004年にはハーフピッチ65 nm以下のデバイスの量産化向けにツインチャンバタイプのArFエキシマレーザGT40A、2005年にはハーフピッチ45 nm以下のデバイスに対応する GT60A, 2006年には 液浸リソグラフィ向けのGT61A、そして2007年には32 nm以下のデバイスに対応する液浸ダブルパターニングプロセス向けのGT62Aと次々に最新リソグラフィプロセスを実現するDUVレーザ光源を市場に送り出してきました。

ギガフォトンのDUVエキシマレーザ光源

今日、ArFエキシマレーザを使用した液浸ダブルパターニング・リソグラフィ・プロセスは、ハーフピッチ65 nmから32 nmレベルまでのDRAM、フラッシュ等のメモリやMPU及びディジタル家電用システムLSI等の量産に利用されています。半導体産業は世界のGNPの25%に相当し、今後その比率は更に増大する傾向にあります。これは、ギガフォトンが四半世紀にわたって取り組んできましたエキシマレーザリソグラフィ技術が世界の半導体産業にいかに大きく貢献してきたかを如実に物語っています。

DUVエキシマレーザ光源の地域別累積出荷台数