2000/12/15
プライベートセミナー報告

セミコン・ジャパンの3日目、午後1時から「リソグラフィ技術の今日と明日」と題したギガフォトンの第１回プライベート・セミナーが開催されました。 演題及びスピーカーは次の通りでした。

挨拶及び会社紹介
	ギガフォトン　社長 杉本伸太郎
今日のリソグラフィ技術の最新状況
DRAM混載LOGICのリソグラフィプロセス	ソニー 池田利喜夫様
Low-k1による解像度の向上	三星電子 Jeong-Lim Nam 様
マスク製造から見た実際的なソリューションのための Low-k1パラダイム	大日本印刷 登山伸人 様
明日のリソグラフィ技術
リソグラフィにおけるトータルコントロール	KLA-Tencor 並木良之 様
ArFエキシマレーザリソグラフィ用化学増幅レジストの現状	日本電気 長谷川悦雄 様
ASETにおけるＦ2リソグラフィ開発プロジェクト	ASET 中尾清春 様
ArF/F2レーザと開発ロードマップ	ギガフォトン　取締役 溝口計
閉会

社長の杉本からは、今年2000年8月1日にジョイント・ベンチャーとしてギガフォトンが船出をしてからも販売は順調に推移し、KrFエキシマレーザG20Kシリーズは設置数が非常な勢いで伸びており、又その信頼性は益々増していると話しがありました。更にセミコン・ジャパン2000ではG40A、4 kHz のArF　(193 nm)エキシマレーザ、を紹介し、4 kHz仕様としては世界に先駆けて商品を発売することが出来、ユーザの方々に喜んで戴けることを確信した、今後も更なる技術開発を進め常に業界をリードする立場を築いて行く決心を述べました。今回のギガフォトン・プライベート・セミナーはエンド・ユーザの方々に役立つ情報を提供したいと言う観点から講師の人選及び演題を選択致しました。前半は現在の技術、後半は将来の技術について講師の方々から各30分前後のお話を戴きました。200ミリから300ミリへの移行時期が近付いており、2001年度は量産用の露光機用光源はKrFからArFへの転換期に当ります。最新の技術を以って今後も躍進して参りたいと考えております。ギガフォトンの今後の躍進にご期待下さい。

2000/12/15
セミコンジャパン2000報告

セミコン・ジャパンが12月6日から3日間、千葉県の幕張メッセで開催されました。半導体業界の好景気と天候に恵まれたことで、来場者人数はSEMI発表で12万人を超えました。ギガフォトンブースでは "Challenge to 0.10 μm design rule"（0.10 μm　デザインルールへの挑戦）をキャッチフレーズに、新機種の4 kHz ArFエキシマレーザ(193 nm)を展示し、KrF（248 nm）の新機種Ｇ21Ｋのカタログを配布し多くの露光機メーカ、半導体メーカの技術者がブースを訪れました。この展示会では日本からだけではなく韓国、台湾、シンガポール等他のアジア地域からのユーザも多く見受けられました。特にギガフォトンブースではいち早く市場導入に成功した4 kHz ArFにお客様の興味が集中しました。製品の製造・販売を通して社会に貢献すると言うギガフォトンのモットーが実現しつつあります。

2000/12/1
セミコンジャパン2000出展のお知らせ

来るセミコンジャパン2000（12月6-8日）におきまして、ギガフォトンは「A New Word In Lasers」と題して出展いたします。 弊社にとりましては今年8月会社発足以来の初のセミ コンジャパン出展となります。
ギガフォトンブースにおきましては、0.10 μmデザインルールへの対応を主眼とする最新機種ArF 4 kHz エキシマレーザ G40Aシリーズのご紹介をはじめとして、皆様をお待ち申 し上げております。
（展示ブース：ホール 6 6-B605）

2000/12/1
アメリカ事業所開設

2000年12月、ギガフォトン米国事務所が発足しました。 ギガフォトンエキシマレーザのマーケティング、サービス拠点整備を目的としており、お客様へは、商品紹介・サービスプランニングを含め、具体的な提案を行って参ります。

[連絡先]

名称	Gigaphoton Inc.
事務所住所	5440 Cerritos Avenue, Cypress, CA
電話	714-229-3165
Fax	714-229-7165

2000/11/1
G40Aシリーズ年内出荷開始

0．10 μmデザインルールに対応するArF 4 kHzエキシマレーザ量産機G40Aを11月に出荷開始いたしました。露光装置メーカでのドッキング評価を経て、量産機種搭載への運びになります。

中心波長	193 nm
繰り返し周波数	4 kHz
パルスエネルギー	5 mJ
出力	20 W

2000/10/18
NEC上海からギガフォトンのレーザサポートに対し感謝状

2000年10月18日、HHNEC（NEC上海）よりGigaphotonに対しGigaphoton 社製レーザ装置とそのサポートに対して感謝状がおくられました。感謝状においては、工場スタート以来のギガフォトンの長期にわたる協力に感謝し、また今後のサポートに期待する旨が記されています。

HHNECは上海地区におけるNEC工場として中国より誘致され1999年2月より稼動開始し、DRAMをメインとして増強を続けているNECの主力工場のひとつです。　操業開始当時は、稼動開始以来0.25 μm以下デザインルール対応DUVリソグラフィ用光源として、ギガフォトンの前身であるコマツ社製エキシマレーザを導入して以来、現在にいたるまで、G10K,G20KなどのギガフォトンKrFエキシマレーザが多数稼動し、また継続的な増強が行われています。

ギガフォトンは2000年8月に、コマツとウシオ電機のエキシマレーザ事業を統合して発足した合弁会社であり、DUVリソ光源用エキシマレーザの開発・製造・販売・サポートを行っています。　今回HHNECよりギガフォトンへ感謝状を送られたことは、ギガフォトンレーザの商品力と海外顧客へのサポート能力を評価していただいたことであり、大変名誉なことと認識しています。

2000/9/12
ギガフォトン（株）発足パーティが開催されました。

さる9月12日、皇居前のパレスホテルにおいて、ギガフォトン（株）発足パーティが開催されました。
半導体業界関連、マスコミ、学会関連の方など３００名ほどにお越しいただきました。
当日は、ウシオ電機牛尾会長、コマツの安崎社長他の首脳陣の出席のもとに、杉本 伸太 郎社長が新会社挨拶を行い、半導体リソグラフィ業界で高い知名度と実績を有すウシオ電機と、エキシマレーザの販売で着実に実績を重ねてきたコマツのエキシマレーザ事業が一 体となり、シナジー効果を発揮して、より質の高い商品の提供を行っていくと述べました。
また、会社方針として、半導体リソグラフィ用エキシマレーザの国際的な企業として 、他社に先んじた技術・品質を社会に提供していくこと、そして具体的には、スピーディな開発・生産体制の統合、及びウシオ電機・コマツで築いてきた営業・カスタマーサポ ート体制の統合化により、顧客重視の商品提供を積極的に進めていく旨を宣言しました。