2001/12/7
ギガフォトン　セミナー開催

半導体業界は既にサブ０．１３マイクロンに向けて動き始めています。最先端技術にかかわる研究をされている方々を講演者としてお迎えし、セミコン・ジャパンの機会に「サブ0.13μmの時代へ」と題しセミナーを開催することになりました。 講演終了後には昼食をとりながらギガフォトンのマネージメントと歓談する機会を設けます。
当社の営業スタッフに参加の旨伝えて戴くか、E-mailで申し込みをお願い致します。尚場所の都合上ご出席戴ける人数は１２０名に限らせて戴きます。　英語―日本語の同時通訳があります。

日時：	2001年12月7日（金）午前9時～12時
場所：	幕張プリンスホテル　セミナーホール
タイトル：	サブ0.13μmの時代へ
プログラム：	開催の挨拶	ギガフォトン株式会社 代表取締役社長 杉本伸太郎
	デザインからウエーハまで	Numerical Tecshnology Inc. Dr. Satyendra Sethi Director of Lithography Applications
	PSM 100 nm用フェーズシフトマスク技術 （仮題）	大日本印刷株式会社 半導体製品研究所 課長補佐　森川　泰考氏
	コーヒーブレイク
	130 nm以降の露光機の選択と その課題	NECエレクトロンデバイス プロジェクトマネージャ 高橋　久氏
	エキシマレーザの現在と将来	ギガフォトン株式会社 取締役　開発統括部門長 五十嵐龍志
	昼食及び歓談

2001/11/15
エキシマレーザに遠隔診断装置を採用

ギガフォトン（社長：杉本　伸太郎）は、同社の半導体露光装置用エキシマレーザを遠隔地から診断するシステム、REDeeM（リディーム：Remote Equipment Data Management）を発売しました。
ギガフォトンでは3年前から遠隔診断装置の開発に着手、2001年の春に開発を完了し、日本、韓国の大手半導体メーカに試験導入を行ってきました。
レーザチャンバー等の主要パーツの状況がリアルタイムに近い状態で把握できること、問題が発生した場合即座に関係者に連絡できること、更には半導体メーカ、露光機メーカ及びレーザメーカのギガフォトンのエンジニアが同一の情報をシェアできること等の特長が同社のレーザ販売の差別化になるとして商品化を決定しました 。

現在でもギガフォトンのレーザは99.7％のアップタイムと非常に高い稼働率を達成していますが、ダウンタイムを更に短く、問題が起きた時には短時間で修理をし復帰させる要求は常に半導体メーカからの要求として出されています。　その要求に対応する為にPM　(preventive maintenance：予防保全)や事故の診断に能力を発揮するREDeeMは有効となります。

試験導入に協力した大手ユーザの一つ、東芝セミコンダクター社、プロセス技術推進センター半導体プロセス開発第２部グループ長の東木工学博士は　「レーザのアップタイムは既に十分高いので本システムは装置診断というよりプリメンテナンス時期予測に活用したい。　試験導入が始まったばかりですが、プリメンテナンス時期予測をしたエキシマレーザの最適運用を実現したいと考えております。」とコメントを戴きました。

またNECエレクトロンデバイス、ULSI開発試作本部生産技術グループの波多野氏は　「レ－ザ－診断を細かくできることで消耗部品の使用期間延長、異常の早期メンテナンス等でのコスト低減、ダウンタイム低減が最大の利点であると考えています」とコメントを戴きました。

今後は日本のみならず世界各国で導入が検討されており、設置台数の多いユーザにとってはエンジニアに掛かる負荷が軽減されるだけでなく、実質的なコスト低減に結びつくことになります。

2001/5/29
ASMLがギガフォトン・レーザの使用を開始

ギガフォトン（社長：杉本　伸太郎）は、かねてより半導体製造装置である露光機の大手メーカ、オランダのASML社向けエキシマレーザの開発を進めてきました。
２０００年から始まったASML社でのレーザ評価が終了し、ASML社はギガフォトンのKrF（248 nm）レーザを同社の半導体露光機であるスキャナーの光源として販売することを決定しました。
第１号機は韓国の大手DRAMメーカの量 産ラインに使われることになり、この度韓国での設置が完了し生産が始まりました。
ギガフォトンは全世界で２００台以上のエキシマレーザを既に設置していますが、ASML社の露光機に搭載されるのは今回が初めてとなります。

ギガフォトンはコマツとウシオ電機のジョイントベンチャーとして２０００年８月に露光機用エキシマレーザの製造・販売のために設立されました。　半導体デバイス設計ルール（設計パターン幅）は年々細密化が進んでおり、従来は水銀ランプを光源とした半導体露光装置で対応できた半導体も、エキシマレーザを光源とした露光装置が必要不可欠な生産ラインが急増してきています。　ギガフォトンでは露光装置の大手メーカであるASML社がギガフォトンレーザを採用したことからさらなるマーケットシェアの拡大を期待しています。
採用されたエキシマレーザの主要仕様は以下の通りとなります。

モデル名	ギガフォトン　エキシマレーザ　モデルG20K4
中心波長	248 nm
発振周波数	2000 Hz
パルスエネルギー	10ｍJ
平均出力	20 W
スペクトル幅(FWHM)	<0.6 pm
スペクトル幅 (95% energy integral)	<2.0pm
積算エネルギー安定性(30パルス)	<+- 0.35%

2001/4/1
G21KがMICRO Magazine社トップ40に選ばれる

期間：	2001年2月25日　－　3月2日
場所：	Santa Clara Convention Center & Westin Hotel, Santa Clara, CA, USA

上記学会においてギガフォトンは下記の発表を行いました。

1. Ultra-high-repetition-rate ArF excimer laser with long pulse duration for 193 nm lithography
2. Ultra-narrow bandwidth 4-kHz ArF excimer laser for 193 nm lithography
3. Extreme high NA, High Throughput Scanner Compatible 4 kHz KrF excimer laser for DUV lithograph

2001/2/1
ギガフォトン、ウシオ台湾内にギガフォトン事業部設立
　－台湾での販売、サポート体制の強化

2001年2月1日　ウシオ台湾内に、ギガフォトン事業部が発足しました。　台湾でのギガフォトンレーザ販売・サポート体制の強化を目的としています。
ギガフォトンは従来台湾でのエキシマレーザの販売・サービスを、代理店Ever Team International Corpを通じて行ってきました。　しかし、最近の台湾市場拡大に伴い、販売・サポート体制の強化が必要となってきたため、ギガフォトンの出資会社ウシオ電機の台湾現地法人であるウシオ台湾内に、ギガフォトン事業部（販売・サポート）を設置し、以下のように販売・サポート活動を行っていきます。 販売活動（露光装置メーカ、台湾のエンドユーザ）については、EverTeam（従来から）と、UTIギガフォトン事業部が協力して行います。　サポートについては、UTIギガフォトン事業部が行います。

【連絡先】

名称	優志旺股ｲ分有限公司(Ushio Taiwan Ltd),ギガフォトン事業部
事務所住所	新竹懸竹北市泰和路82号1階
電話	(886) 3-555-8846
Fax	(886)-3-555-8813