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平成16年12月1日
ギガフォトン、新製品G41K+（プラス）を発売開始
KrFエキシマレーザG40Kシリーズの発振効率を大幅改善
ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/ ）は、KrF（フッ化クリプトン）エキシマレーザG40Kシリーズの新製品「G41K+(プラス)」を開発し、販売を開始しました。G41K+は、130 nm以下のデザインルールに対応するリソグラフィ用光源として、2003年に発売された4kHz KrFエキシマレーザ 「G41K」（発振波長=248 nm、発振周波数=4,000 Hz）の改良モデルであり、発振効率が大幅に改善されたほか、主要消耗品（モジュール）を全面的に改良して長寿命化し、ランニングコストの大幅低減を実現しました。
G41K+発売について、ギガフォトン代表取締役社長の渡辺裕司は、こうコメントしています。「KrFレーザG41K+は、飛躍的な耐久性向上を実現し、お客様の低CoOに大いに貢献します。また、フィールドでのアップグレード可能・高出力タイプなど、多様化していく市場ニーズに対して地に足のついた技術提案を、今後も行っていきたいと考えています。」
G41K+の主な特長
- 主要消耗品（モジュール）の長寿命化
G41K+の開発にあたっては、レーザ発振に必要なパルス放電を行うレーザチャンバに、新開発の高耐久電極を採用することで長寿命化を図りました。また、レーザ光の計測部には高耐久の新型光センサを採用し、耐久性を向上しました。さらに、共振器光学系には、狭帯域化モジュールに高効率の光学素子を搭載することにより、レーザ発振効率を大幅改善し、システム全体でのエネルギーマージンを向上しました。
以上の改良により、レーザチャンバの交換間隔が、200億パルスから300億パルスに、狭帯域化モジュール・モニタモジュール・フロントミラー等、光学部品の交換間隔が200億パルスから300億パルスに伸びました。これらモジュールの耐久性の全面改良により、KrFレーザのランニングコストが従来のおよそ3分の2（当社比）まで、大幅に低減される事になります。
- フィールドでG41KからG41K+へのアップグレードが可能となるほか、高出力への要望にも対応
ギガフォトンは、既にG41Kをお使いのお客様向けに、フィールドでのモジュール交換によるG41KからG41K+のアップグレードを可能としました。また、G41K+は今後需要が予想される、より高出力なKrF光源へのニーズにも対応できる製品として開発しています。
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ギガフォトン株式会社は2000年、世界2位の建設機械メーカー「コマツ」と、世界最大手の露光用ランプ・メーカー「ウシオ電機株式会社」の合弁会社として発足しました。以来、世界に先がけて次々と半導体リソグラフィ装置向け最新鋭エキシマレーザを製品化し、ギガビット世代の超微細集積回路に対応するリソグラフィ技術の発展に貢献しています。ギガフォトンは、世界2位の露光用エキシマレーザメーカーとして、日本を含むアジア市場ではほとんど全ての半導体メーカーで製品が使用されているほか、欧米市場でも急成長を続けています。
社名、ロゴ、G41K、G41K+は、株式会社ギガフォトンの商標です。記載内容は予告なしに変更される場合があります。ギガフォトンは、プレスリリースの記載内容が将来の諸事由で変更された場合、内容の更新または訂正発表する責任を持ちません。
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