ギガフォトンが発行するプレスリリース、参加するイベント情報をご紹介します。

プレスリリース

2005年12月7日

ギガフォトン、新製品「GT60A」を発表
6kHz露光用インジェクションロックArFエキシマレーザ

ギガフォトン株式会社）は、45 nm以下のデザインルールに対応するリソグラフィ用光源として、インジェクションロック技術を搭載したArF（フッ化アルゴン）エキシマレーザの新製品「GT60A」（発振波長: 193 nm、発振周波数: 6,000 Hz）を開発したと発表しました。GT60Aの出荷は2005年12月からで、ギガフォトンでは露光装置メーカーでの接続テストを経て、2006年中頃から主に液浸露光装置に搭載されて半導体工場での稼動が開始されると見込んでいます。
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2005年4月27日

ギガフォトン、新製品「GT40A」の量産出荷開始
業界初の露光用インジェクションロックArFエキシマレーザ

ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司）は、65 nm以下のデザインルールに対応するリソグラフィ用光源として、インジェクションロック技術を搭載したArF（フッ化アルゴン）エキシマレーザの新製品「GT40A」（発振波長: 193 nm、発振周波数: 4,000 Hz）の量産出荷を開始したと発表しました。既に大手露光装置メーカーのオランダASML社での接続テスト・及び製品評価を終了しており、GT40Aを搭載した同社の液浸露光装置は、2005年中頃に大手半導体メーカー向けに出荷される予定です。
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イベント情報

SEMICON KOREA 2006に出展

ギガフォトンは、2月8日（水）～10日（金）に韓国・ソウルのConvention and Exhibition Centre (COEX)で開催される「SEMICON KOREA 2006」に 出展し、最新鋭の ArFエキシマレーザGT60Aなど、主力製品のパネル展示を行う予定です(小間番号 : 218,ウシオコリア社ブース内)。

SEMICON JAPAN 2005に出展

ギガフォトンは、12月7日（水）～9日（金）に幕張メッセ(日本コンベンションセンター)で開催される「SEMICON JAPAN 2005」に出展し、主力製品のパネル展示を行う予定です(小間番号 :6A-910)。

「ギガフォトンセミナー」開催

SEMICON JAPAN 2005出展にあわせて、プライベートセミナーを開催します。今回は、「最先端リソグラフィの課題と光源からのソリューション」をテーマに、国内外大手デバイスメーカーのトップ技術者の方々を講師にお迎えし、リソグラフィ技術の最前線についてお話いただくほか、ギガフォトンがご提案する技術面・製品面でのソリュー ションをご紹介します。

日　時	2005年12月8日(木)、15:00～17:00 (17:00～夕食及び歓談)
会　場	幕張プリンスホテル「プリンスホール2F」
テーマ	「最先端リソグラフィの課題と光源からのソリューション」

プログラム(同時通訳あり)
15:00-15:20	「開会ごあいさつ」　ギガフォトン株式会社　代表取締役社長　渡辺裕司
15:20-15:50	「Hurdles in Low K Mass Production」　ユーザー招待講演
15:50-16:20	「45nm Node以降に向けたリソグラフィの課題(仮)　 ユーザー招待講演
16:20-16:50	「高出力高繰り返しArFレーザとEUV光源の将来」　ギガフォトン株式会社 取締役　溝口 計
17:00 －	夕食及び歓談

セミナーお問い合わせ
ギガフォトン株式会社 営業本部第一営業部　担当: 松井
TEL: 0285-28-8415 FAX: 0285-28-8439

SEMICON Taiwan 2005に出展

ギガフォトンは、9月12日（月）～14日（水）に台湾のTaipei World Trade Centerで開催される「SEMICON Taiwan2005」に出展し、最新鋭のArFエキシマレーザGT40Aなど、主力製品のパネル展示を行う予定です(小間番号 : 426,ウシオ台湾ブース内)。

SPIE 2005で発表、出展

ギガフォトンは、2月27日(日)～3月4日(金)に開催される「SPIE 30th International Symposium "microlithography"」（会場: 米サンノゼ・コンベンション・センター、マリオット・ホテル）にて、以下の論文発表を行います。

3月4日（金）、12:10 am - 12:30 am
Session 14
Advanced Exposure Systems and Components II
“High power injection lock laser platform for ArF dry/wet lithography.”
発表者: 溝口 計 [5754-74]

Posters-Session（3月3日（木）終日）
Feasibility Study of a 6kHz excimer laser for 193nm immersion lithography.
発表者: 堀 司 [5754-140]

また、最新鋭ArFエキシマレーザGT40Aを始めとする、主力製品のプレゼンテーション展示を行う予定です。
(小間番号: 119,ウシオアメリカブース内)

セミコン・コリア2005に出展

ギガフォトンは、2月2日（水）～4日（金）に韓国・ソウルのConvention and Exhibition Centre (COEX)で開催される「セミコン・コリア 2005」に 出展し、最新鋭のArFエキシマレーザGT40A、KrFエキシマレーザG41Kシリーズなど、主力製品のパネル展示を行う予定です(小間番号 : 674,ウシオコリアブース内)。