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平成17年4月27日
ギガフォトン、新製品「GT40A」の量産出荷開始
業界初の露光用インジェクションロックArFエキシマレーザ
ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/ ）は、65 nm以下のデザインルールに対応するリソグラフィ用光源として、インジェクションロック技術を搭載したArF（フッ化アルゴン）エキシマレーザの新製品「GT40A」（発振波長: 193 nm、発振周波数: 4,000 Hz）の量産出荷を開始したと発表しました。既に大手露光装置メーカーのオランダASML社での接続テスト・及び製品評価を終了しており、GT40Aを搭載した同社の液浸露光装置は、2005年中頃に大手半導体メーカー向けに出荷される予定です。
今日の最先端半導体リソグラフィプロセスでは、ますます加速する集積回路パターンの微細化に対応すべく、ArFリソグラフィが主流となり、また液浸ArFリソグラフィ技術が次世代プロセスの最右翼となっています。そして、リソグラフィ光源のArFレーザに対しては、液浸ArFリソグラフィに対応できる高いスループット、スペクトル安定性能への要求が一層高まってきています。
ギガフォトンは、このような要求に応えるために、昨年12月に、65 nm以下の技術ノードに対応する、量産機としては業界初のインジェクションロック技術を搭載した4kHz ArFエキシマレーザ「GT40A」を開発し、社内で製品評価を開始しました。その結果、「GT40A」の安定した高性能、低ランニングコスト、非常に高い信頼性・稼働率が量産露光に十分に対応できると判断されたため、「GT40A」の市場導入が決定されたものです。
ギガフォトンのエキシマレーザ装置は、国内外大手露光装置メーカー各社が採用していますが、ASML社には2000年からKrF及びArFエキシマレーザ装置を納入しています。ASML社とギガフォトンは、装置開発及びサポートに関して緊密な協力体制を確立しており、GT40Aの導入稼動開始に関しても予定通り行われるものと期待しています。
また、ギガフォトンはASML社が購入部品サプライヤーのQLTC（品質・物流・技術・コスト）評価のために策定した「Value Sourcing」に対して積極的に取り組んでおり、昨年には露光装置用レーザ光源メーカーとしてはじめて最優秀ランク”A” Statusを獲得しました。ASML社サプライ・チェーン・マネージメント担当シニア・バイス・プレジデントのHenk Scheepers氏は、こうコメントしています。「私たちは、ギガフォトンがASMLのQLTC維持のため、引き続き高品質のサポートを提供してくれるものと期待しています。」
GT40Aの特長
- インジェクションロックレーザー
量産機として業界初のインジェクションロック技術(*)を採用し、45 Wの高出力と、半値全幅では0.2ピコメートル、E95では0.5ピコメートルという、業界最高水準のスペクトル線幅のDUV光を、高度に安定して発振することができます。
(*)インジェクションロック技術とは、非常に狭いスペクトル幅にチューニングし発振させた低出力のレーザ光（Master）を、大出力のレーザ共振器（Amplifier）に注入し、レーザ共振により増幅する技術で、従来困難とされていた狭いスペクトルと高出力の両立を可能とする技術です。
- 業界トップレベルの低ランニングコスト
インジェクションロック技術により、レーザ光学部品への負荷が低減され、また、システム構成をリファインすることにより消耗品（モジュール）の種類・交換頻度が大幅に低減されました。その結果、業界トップレベルの低ランニングコストを実現しています。
- 高信頼・高稼働設計
新開発の高度自己診断機能 (self diagnosis) を搭載しているほか、モジュール交換性など、サービス性を大幅に改良し、半導体工場で必須とされる高信頼性・高稼働率を実現しています。
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ギガフォトン株式会社は2000年、世界2位の建設機械メーカー「コマツ」と、世界最大手の露光用ランプ・メーカー「ウシオ電機株式会社」の合弁会社として発足しました。以来、世界に先がけて次々と半導体リソグラフィ装置向け最新鋭エキシマレーザを製品化し、ギガビット世代の超微細集積回路に対応するリソグラフィ技術の発展に貢献しています。ギガフォトンは、世界2位の露光用エキシマレーザメーカーとして、日本を含むアジア市場ではほとんど全ての半導体メーカーで製品が使用されているほか、欧米市場でも急成長を続けています。
社名、ロゴ、GT40Aは、株式会社ギガフォトンの商標です(申請中含む)。記載内容は予告なしに変更される場合があります。ギガフォトンは、プレスリリースの記載内容が将来の諸事由で変更された場合、内容の更新または訂正発表する責任を持ちません。
<プレスの皆様>
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