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2005年12月7日
ギガフォトン、新製品「GT60A」を発表
6 kHz露光用インジェクションロックArFエキシマレーザ
ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/ ）は、45 nm以下のデザインルールに対応するリソグラフィ用光源として、インジェクションロック技術を搭載したArF（フッ化アルゴン）エキシマレーザの新製品「GT60A」（発振波長: 193 nm、発振周波数: 6,000 Hz）を開発し、出荷を開始したと発表しました。ギガフォトンでは露光装置メーカーでの接続テストを経て、2006年中頃から主に液浸露光装置に搭載されて半導体工場での稼動が開始されると見込んでいます。
今日の最先端半導体リソグラフィプロセスでは、ますます加速する集積回路パターンの微細化に対応すべく、ArFリソグラフィが主流となり、とりわけ液浸ArFリソグラフィ技術が次世代プロセスの主流となってきました。また、リソグラフィ光源のArFレーザに対しては、液浸ArFリソグラフィに対応できる高い出力、レンズのダメージを抑えて高いスループットを確保するための高周波数、スペクトル安定性能への要求が一層高まってきています。
ギガフォトンは、このような市場のリソグラフィーロードマップに対応して、2005年春より業界初となるインジェクションロック方式の露光用ArFエキシマレーザ「GT40A」(発振周波数: 4,000 Hz、出力: 45ワット)の量産出荷を開始しました。GT60Aは、GT40Aと同様にインジェクションロック方式を採用したプラットフォームの2世代目にあたるもので、ギガフォトンはGT40Aの量産出荷から1年を経過せずに、出力の大幅な向上と発振周波数が1.5倍の6,000 HzとなるGT60Aの開発に成功しました。
GT40Aはすでに各国の主要ユーザに受け入れられており、その設計思想・信頼性が高く評価されています。GT60Aは、GT40Aと同じプラットフォーム上に設計されており、最大限の共通化が図られているため、ユーザにとってその導入当初から高い信頼性が期待できます。
GT60Aの特長
- 高出力・高発振周波数
発振周波数4,000 Hzを実現したGT40Aに改良を加え、大幅な効率向上により同じプラットフォーム上に6,000 Hzの発振周波数を実現しました。これによりパルスあたりのエネルギを押さえながらも出力を33%以上アップし、60ワットとしました。大幅な出力と周波数の改善にもかかわらず、露光装置の解像度をサポートするスペクトル性能はGT40Aと同レベルを確保しています。
- 信頼性・安定性
実績のあるGT40Aプラットフォーム上に設計され最大限の共通化が図られており、導入当初から高い信頼性が期待できますので安心して導入いただけます。
また、GT40Aで新規に導入された高度自己診断機能に加え、装置のアベイラビリティーを高めるための各種機能が追加されています。GTシリーズの大きなアドバンテージであるモジュール交換性を含むサービス性も確保されており、半導体工場で必須とされる高信頼性・高稼働率を実現しています。
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ギガフォトン株式会社は2000年、世界2位の建設機械メーカー「コマツ」と、世界最大手の露光用ランプ・メーカー「ウシオ電機株式会社」の合弁会社として発足しました。以来、世界に先がけて次々と半導体リソグラフィ装置向け最新鋭エキシマレーザを製品化し、ギガビット世代の超微細集積回路に対応するリソグラフィ技術の発展に貢献しています。ギガフォトンは、世界2位の露光用エキシマレーザメーカーとして、日本を含むアジア市場ではほとんど全ての半導体メーカーで製品が使用されているほか、欧米市場でも急成長を続けています。
社名、ロゴ、GT40A、GT60Aは、株式会社ギガフォトンの商標です(申請中含む)。記載内容は予告なしに変更される場合があります。ギガフォトンは、プレスリリースの記載内容が将来の諸事由で変更された場合、内容の更新または訂正発表する責任を持ちません。©2005 ギガフォトン
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ギガフォトン株式会社 第一営業部 松井 優達
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