ギガフォトンが発行するプレスリリース、参加するイベント情報をご紹介します。

プレスリリース

2006年12月6日

ギガフォトン、新製品「GT61A」を発表
ArFエキシマレーザ「GTシリーズ」の最新モデルとして、一層の性能向上と共に
露光装置のダウンタイム低減・メンテナンス費用削減に大きく貢献

ギガフォトン株式会社は、N.A. 1.3を超えるHyper N.A露光機に対応するリソグラフィ用光源として、インジェクションロック技術を搭載したArF（フッ化アルゴン）エキシマレーザの新製品「GT61A」（発振波長: 193 nm、発振周波数: 6,000 Hz）を開発したと発表しました。すでに露光機メーカーによるレーザテストを終えて量産出荷が始まっており、ギガフォトンでは2007年中頃から液浸露光装置に搭載されて半導体工場での稼動が開始されると見込んでいます。
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製品イメージは以下よりダウンロードできます：
  GT61A Photo1 (Jpeg, 728KB)
  GT61A Photo2 (Jpeg, 638KB)

2006年7月26日

ギガフォトン、米国でASML社と共同サービス契約の締結を発表
レーザに対するカスタマーサポート活動の強化に向け大きく前進

詳細は英文リリース参照

 

イベント情報

「SEMICON JAPAN」に出展

ギガフォトンは、12月6日（水）～8日（金）に幕張メッセ(日本コンベンションセンター)で開催される「SEMICON JAPAN 2006」に出展し、主力製品のパネル展示を行う予定です(小間番号 :5C-723)。

「ギガフォトンセミナー」に開催

SEMICON JAPAN 2006出展にあわせて、プライベートセミナーを開催します。今回は、「最先端リソグラフィの課題と光源からのソリューション」をテーマに、国外大手デバイスメーカーのトップ技術者の方を講師にお迎えし、リソグラフィ技術の最前線についてお話いただくほか、ギガフォトンがご提案する技術面・製品面でのソリュー ションをご紹介します。

日　時	2005年12月8日(金)、15:00～17:00 (17:00～夕食及び歓談)
会　場	幕張東京ベイ幕張「幕張ホール」
テーマ	「最先端リソグラフィの課題と光源からのソリューション」

プログラム(同時通訳あり)
15:00-15:20	「開会ごあいさつ」　ギガフォトン株式会社　代表取締役社長　渡辺裕司
15:20-15:50	「32nm Lithography技術における展望」　Dr. SHIN JAN GHO, Senior Engineer, Memory Division Fab Process Development Team, Semiconductor Business, Samsung Electronics Co., Ltd.
15:50-16:15	「ArFレーザ最新技術と製品ロードマップ」　ギガフォトン株式会社　取締役　溝口 計
16:15-16:40	「EUV光源の現状」　EUVA 光源開発室長 住谷 明
16:40-16:55	「レーザダウンタイム低減に向けてファブ稼働率向上への貢献」　ギガフォトン株式会社　マーケティング室　高久 賢次
17:00 -	夕食及び歓談

セミナーお問い合わせ
ギガフォトン株式会社 営業本部第一営業部　担当: 松井　優達
TEL: 0285-28-8415 FAX: 0285-28-8439

「SEMICON TAIWAN 2006」に出展

ギガフォトンは、9月11日（月）から13日（水）に台湾の台北にあるTaipei World Trade Centerで開催される「SEMICON TAIWAN 2006」に出展し、GPIレーザ（ArF、KrF）の信頼性を紹介する一方で、最新鋭の ArFエキシマレーザGT60Aなど、主力製品のパネル展示を行う予定です(小間番号 : 1072)。