

2006年12月6日
ギガフォトン、新製品「GT61A」を発表
ArFエキシマレーザ「GTシリーズ」の最新モデルとして、一層の性能向上と共に
露光装置のダウンタイム低減・メンテナンス費用削減に大きく貢献
ギガフォトン株式会社(本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/ )は、N.A. 1.3を超えるHyper N.A露光機に対応するリソグラフィ用光源として、インジェクションロック技術を搭載したArF(フッ化アルゴン)エキシマレーザの新製品「GT61A」(発振波長: 193 nm、発振周波数: 6,000 Hz)を開発したと発表しました。すでにレーザテストを終えて量産出荷が始まっており、ギガフォトンでは2007年中頃から液浸露光装置に搭載されて半導体工場での稼動が開始されると見込んでいます。
今日の最先端半導体リソグラフィプロセスでは、ますます加速する集積回路パターンの微細化に対応すべく、ArFドライリソグラフィが先端量産工場の主力となる一方で、液浸ArFリソグラフィ技術が次世代プロセスの主流となってきました。また、リソグラフィ光源のArFレーザに対しては、液浸ArFリソグラフィに対応できる高い出力、レンズのダメージを抑えて高いスループットを確保するための高周波数、スペクトル安定性能への要求が一層高まってきています。
ギガフォトンは、このような市場のリソグラフィーロードマップに対応して、2005年春より業界初となるインジェクションロック方式の露光用ArFエキシマレーザ「GT40A」(発振周波数: 4,000 Hz、出力: 45ワット)の量産出荷を開始し、2006年末には周波数を6,000Hz、出力を60Wまで高めたGT60Aを出荷しました。GT61Aは、GT40A/GT60Aに続くGTシリーズの最新モデルで、インジェクションロック方式を採用したプラットフォームの3世代目にあたります。ギガフォトンはGT60Aで実現した高出力、高周波数技術に加え、GT61AではN.A. 1.3以上の液浸露光装置へ対応するために、スペクトル幅(E95%)をGT40A/GT60Aから30%向上させることに成功しました。また、性能の向上だけでなくレーザチャンバの寿命を大幅に改善し、ダウンタイム低減・メンテナンス費用削減に大きく貢献します。
GT40A/GT60Aはすでに各国の主要ユーザーに数多く受け入れられており、その設計思想・信頼性が高く評価されています。GT61Aは、GT40A/GT60Aと同じプラットフォーム上に設計されており、最大限の共通化が図られているため、ユーザーにとってその導入当初から高い信頼性が期待できます。
GT61Aの特長
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ギガフォトン株式会社は2000年、世界2位の建設機械メーカー「コマツ」と、世界最大手の露光用ランプ・メーカー「ウシオ電機株式会社」の合弁会社として発足しました。以来、世界に先がけて次々と半導体リソグラフィ装置向け最新鋭エキシマレーザを製品化し、ギガビット世代の超微細集積回路に対応するリソグラフィ技術の発展に貢献しています。ギガフォトンは、世界2位の露光用エキシマレーザメーカーとして、日本を含むアジア市場ではほとんど全ての半導体メーカーで製品が使用されているほか、欧米市場でも急成長を続けています。
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