2008年2月25日

ギガフォトン、新製品「GT62A」を出荷開始

ArFエキシマレーザ「GTシリーズ」の最新モデルとして、90ワットの高出力と共に
ダウンタイム低減・メンテナンス費用削減に大きく貢献

ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/ ）は、液浸の二重露光(ダブルパターニング)に対応した露光装置用の光源として、インジェクションロック技術を搭載したArF（フッ化アルゴン）エキシマレーザの新製品「GT62A」（発振波長: 193 nm、最大出力: 90ワット、発振周波数: 6,000 Hz）の出荷を開始したと発表しました。初号機はすでに同社顧客である露光機メーカーに納入されており、ニーズが高まる液浸二重露光装置の導入をサポートしています。

今日の最先端半導体リソグラフィプロセスでは、45nmノードに対応する液浸リソグラフィ技術が量産に適用されつつあります。同時に次世代の32nmノードについては、液浸のダブルパターニングが最有力候補とされています。液浸ダブルパターニングの装置では露光の解像性能に加えて、経済性を高める観点から高スループット、高稼働率が求められます。

GT62Aは高出力・高稼働率と同時に、メンテナンス時間・運転コストの低減を実現した製品です。既に、市場で高い信頼性が確認されているGTシリーズプラットフォーム上に設計されているため、導入当初から高い信頼性が実現できます。またチャンバーや光学部品などの消耗品の長寿命化技術、およびダウンタイムを最小にするギガフォトン独自の技術が搭載されており、経済面からも最先端プロセスの導入を支えます。GTシリーズはすでに各国の主要ユーザーに受け入れられており、液浸リソグラフィ用光源で4割のシェア（注）を持ち、世界の最先端工場の生産性向上に大きく寄与しています。

GT62Aの出荷開始に関して、ギガフォトン社長の渡辺裕司はこうコメントしています。「従来通りの高い製品信頼性をしっかり確保しながら、次世代の光源をいち早く市場に投入することができました。初号機はお客様の仕様にあわせて60Wで出荷しましたが、必要が生じればフィールドで再び90Wに変更可能です。GTプラットフォームの拡張性や設計思想が柔軟なソリューション提供を可能にしています」

GT62Aの特長
1.高出力・高安定性
新開発の電源を採用することにより、60ワットのGT61Aと比較して50%の向上を達成し、90ワットの高出力を実現しました。高出力化に伴って増大する熱負荷への対策技術、新開発の高耐久性の光学素子を搭載しており、高出力運転時にも性能の安定性が確保されています。また、ギガフォトン独自の技術であるBCM(Bandwidth Control Module）を標準装備しており、安定したスペクトルを提供します。
また、さまざまな顧客ニーズに対応するため、60ワット出力の仕様もラインナップしました。これにより導入当初はコストを抑えながら60ワット出力で運転を続け、将来必要になった時点で90ワットにアップグレードすることが可能となり、最適なタイミングで必要な投資をしながらご使用いただけます。

2.コスト・ダウンタイムの削減
半導体製造装置は飛躍的なスピードで高性能化に加えて高スループット化が進んでいます。このような製造装置を最大限の稼働率で運転することがお客様の工場の生産性を高めることにつながると考え、ギガフォトンは長年に亘りあらゆる面からレーザの高稼働率を達成・維持するための活動を継続してきました。
GT62Aにはその最新の技術が標準で搭載されています。例えばレーザチャンバ交換によるダウンタイムとコストを削減する技術、ガス交換によるダウンタイムを従来の10分の1にまで削減する技術などが挙げられます。

仕様概要

発振波長	193 nm
発振周波数	6,000 Hz（最大）
パルスエネルギー	10.0/15.0 mJ
平均出力	60/90 W
スペクトル幅（95 %エネルギー積算）	< 0.35 pm
モジュール保守間隔
レーザチャンバ交換(発振段)	200億パルス
レーザチャンバ交換（増幅段）	300億パルス
モニターモジュール交換	300億パルス
PO フロントミラー交換	120億パルス
PO リアミラー交換	120億パルス
フッ素トラップ交換	200サイクル

注) 2007年の年間販売台数。ギガフォトン独自調査による。

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ギガフォトン株式会社は2000年、世界2位の建設機械メーカー「コマツ」と、世界最大手の露光用ランプ・メーカー「ウシオ電機株式会社」の合弁会社として発足しました。以来、世界に先がけて次々と半導体リソグラフィ装置向け最新鋭エキシマレーザを製品化し、ギガビット世代の超微細集積回路に対応するリソグラフィ技術の発展に貢献しています。ギガフォトンは、世界2位の露光用エキシマレーザメーカーとして、日本を含むアジア市場ではほとんど全ての半導体メーカーで製品が使用されているほか、欧米市場でも急成長を続けています。

社名、ロゴは、株式会社ギガフォトンの商標です。記載内容は予告なしに変更される場合があります。ギガフォトンは、プレスリリースの記載内容が将来の諸事由で変更された場合、内容の更新または訂正発表する責任を持ちません。©2007 ギガフォトン

報道関係者お問合せ先
ギガフォトン株式会社　総務部　佐藤 日出一
TEL: 0285-28-8410　Email: hideichi_satou@gigaphoton.com

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