ギガフォトンが発行するプレスリリース、参加するイベント情報をご紹介します。

プレスリリース

2010年4月26日

EUV光源で出力100W超を達成
高出力と安定性･経済性を追求した独自技術によるEUV露光用LPP光源の量産化計画が前進

ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、
http://www.gigaphoton.com/）は、参加している技術研究組合 極端紫外線露光システム技術開発機構(Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association、以下: EUVA、本部: 神奈川県川崎市、理事長　:牛尾治朗、http://www.euva.or.jp/)がEUV露光用LPP光源開発プログラムの中で、104Wの出力を達成したとの発表を受け、その製品化に着手しました。ギガフォトンはEUVAの参加企業の一社として2002年からEUV露光用LPP光源の開発に取り組んでおり、すず(Sn)と炭酸ガスレーザの組み合わせや、磁場を使ったデブリ除去などユニークな方式を提案してきました。このたびの発表は、これまで検証を積み重ねてきた要素技術を組み合わせて実証された性能であり、ギガフォトンでは2011年に予定されている製品出荷へ向けての大きな一歩と位置づけています。 続きを読む

 

イベント情報

「ギガフォトンセミナー」開催

SEMICON JAPAN 2010 開催に併せて、ギガフォトンではプライベートセミナーを開催致します。
今回は「最先端リソグラフィの課題と光源からのソリューション」と題し、デバイスメーカーのトップ技術 者の方々を講師にお迎えし、リソグラフィ技術の最前線についてお話頂き、また弊社の提案する技術面・製品面でのソリューションをご紹介し、受講者の皆様へ充実した時間をお約束致します。
また講演終了後にはささやかではございますが、夕食をご用意させて頂いております。
是非ともこの機会にご参加下さいますよう、よろしくお願い申し上げます。当社の営業スタッフに参加の旨を伝えて頂くか、E-mail にてご連絡下さい。(英語-日本語の同時通訳があります。)

テーマ	「最先端リソグラフィの課題と光源からのソリューション」
日　時	2010年12月3日(金)、15:00～17:15 (17:15～夕食及び歓談)
会　場	アパホテル＆リゾート 東京ベイ幕張「幕張ホール」

プログラム(同時通訳あり)
15:00-15:15	「開催の挨拶」	ギガフォトン株式会社 代表取締役社長　渡辺裕司
15:15-15:45	EUV Lithography: Status and further challenges towards a maturing technology	IMEC Advanced Lithography Program Manager Geert Vandenberghe
15:45-16:15	ロジックデバイス向け リソグラフィの現状と光源への期待	ルネサスエレクトロニクス株式会社 生産本部 プロセス技術統括部 プロセス加工技術部 チームマネージャ 内山貴之
16:15-16:45	Current status of EUV process technology	Samsung Electronics Co., Ltd Semiconductor Business Memory Division, NRD-Project Principal Engineer Oh, Seokhwan
16:45-17:15	ギガフォトン LPP EUV 光源開発の現状とロードマップ	ギガフォトン株式会社 Chief Technology Officer 溝口計
17:15 -	会食

セミナーお問い合わせ
ギガフォトン株式会社 営業本部第一営業部 : 田中亮太郎
TEL: 0285-28-8415 FAX: 0285-28-8439
E-mail: ryotaro_tanaka@gigaphoton.com