ギガフォトン株式会社：News & Event

2010年4月26日

EUV光源で出力100W超を達成

高出力と安定性･経済性を追求した独自技術によるEUV露光用LPP光源の量産化計画が前進

ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、
http://www.gigaphoton.com/）は、参加している技術研究組合極端紫外線露光システム技術開発機構(Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association、以下: EUVA、本部: 神奈川県川崎市、理事長　:牛尾治朗、http://www.euva.or.jp/)がEUV露光用LPP光源開発プログラムの中で、104Wの出力を達成したとの発表を受け、その製品化に着手しました。ギガフォトンはEUVAの参加企業の一社として2002年からEUV露光用LPP光源の開発に取り組んでおり、すず(Sn)と炭酸ガスレーザの組み合わせや、磁場を使ったデブリ除去などユニークな方式を提案してきました。このたびの発表は、これまで検証を積み重ねてきた要素技術を組み合わせて実証された性能であり、ギガフォトンでは2011年に予定されている製品出荷へ向けての大きな一歩と位置づけています。

波長193nmのArFレーザを使った液浸露光装置によるダブルパターン露光が微細化の限界に達しつつある中、波長が13.5nmと短いEUV光源は、今後数世代にわたってムーアの法則を維持していくことの出来る次世代露光技術ソリューションと考えられています。EUV露光装置導入を実現するにあたって、要素技術の中でも特に光源の大出力化が主要な課題とされており、その技術成果に注目が集まっています。

ギガフォトン代表取締役社長の渡辺裕司はこうコメントしています。「LPP光源で100Wが達成されたことで、EUV露光装置の経済性が液浸ダブルパターン露光装置と同等になると考えており、将来の400W級EUV露光装置導入の機運を一層高めるものと期待しています。ギガフォトンとしては市場からの2011年出荷への要請に応えるため、初期量産に対応する工場の稼動を今四半期に開始しており、EUVビジネスの準備を着々と進めています」

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ギガフォトン株式会社は2000年、世界2位の建設機械メーカー「コマツ」と、世界最大手の露光用ランプ・メーカー「ウシオ電機株式会社」の合弁会社として発足しました。以来、世界に先がけて次々と半導体リソグラフィ装置向け最新鋭エキシマレーザを製品化し、ギガビット世代の超微細集積回路に対応するリソグラフィ技術の発展に貢献しています。ギガフォトンは、世界トップクラスの露光用エキシマレーザメーカーとして、日本を含むアジア市場ではほとんど全ての半導体メーカーで製品が使用されているほか、欧米市場でも急成長を続けています。

報道関係者お問合せ先
ギガフォトン株式会社　経営企画室　高久賢次
TEL: 0285-28-8410 Email: kenji_takahisa@gigaphoton.com

記事掲載時の連絡先
ギガフォトン株式会社　営業本部業務部香月裕
TEL: 0285-28-8415 Email: sales@gigaphoton.com
http://www.gigaphoton.com/

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