2010年4月26日

EUV露光装置用LPP光源で出力100Ｗ 超を達成

技術研究組合　極端紫外線露光システム技術開発機構（Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association, 以下EUVA、本部：神奈川県川崎市、理事長：牛尾治朗、http://www.euva.or.jp）は、EUV露光装置用光源の開発を、新エネルギー・産業技術開発機構（NEDO）の支援により行ってまいりましたが、レーザ励起型プラズマ光源（ＬＰＰ光源）により、露光装置の実効的な光源にあたる中間焦点（IF : Intermediate Focus）で104 Wの出力を得たと発表しました。

ＥＵＶＡは、2002年よりＥＵＶ露光装置用の光源技術の開発に取り組んでおります。すず（Sn）に炭酸ガスレーザを照射することで発生するプラズマにより、効率的にEUV光を取りだすことや、磁場を使ってプラズマ中のイオンを除去するなど、ユニークな方式を提案してまいりました。このたびの発表は、これまで積み上げてきた要素技術を、光源システムとして総合化した結果得られた性能です。

技術の詳細は次の通りです。60ミクロン径のすず（Sn）ドロップレットに、7.9 kWのCO₂レーザを照射し、変換効率2.5%によって104 Wを得ることができました。今後さらにCO₂レーザの高出力化や、変換効率の向上を図り、さらなる高出力化を推進して行く予定です。

従来技術であるアルゴンフッ素エキシマレーザ光（波長193 nm）を用いた液浸露光技術とダブルパターニング技術（２回の露光・加工技術）の組み合わせによる微細化は、パターン配置の自由度やコスト上昇の壁にぶつかり、限界に達しつつあります。一方、波長13.5 nmのEUV光を使うことにより、微細化におけるパターン形状の制限が無くなり、１回の露光ですむためコスト的にも有利になるなど、EUV露光は、次世代技術の切り札として注目されております。この中で光源技術の高出力化は、EUV露光技術実用化の一つのカギを握る技術として、その高出力化が待たれておりました。

今回開発した技術を基礎として、今後さらに実用機に搭載できるよう高出力化を進めてまいる予定です。なお、本技術開発成果は、EUVA組合員企業である株式会社 小松製作所（コマツ）の協力によって得られたもので、今後、露光光源の製品化は同じく組合員企業であるギガフォトン株式会社で行うことが計画されています。

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報道関係者お問合せ先
技術研究組合　極端紫外線露光システム技術開発機構
研究企画部　笠間邦彦
TEL: 044-221-6151 Email: k.kasama@euva.or.jp

記事掲載時の連絡先
技術研究組合　極端紫外線露光システム技術開発機構
TEL: 044-221-6151 http://www.euva.or.jp/

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