ギガフォトン

ニュース・イベント

ギガフォトンが発行するプレスリリース、参加するイベント情報をご紹介します。

プレスリリース

2011年12月5日

露光用エキシマレーザ、1,000台の出荷を達成
ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、 www.gigaphoton.com）は、露光用エキシマレーザ製品シリーズの出荷台数が、累計1,000台に達したと発表しました。ギガフォトンは、その前身であるコマツにて1985年に日本初のエキシマレーザ装置KLE-630を発売し、1987年には世界初の露光用エキシマレーザKLE-630Sを発売しました。以来、市場の高い期待に応え、高精細・高スループット・低ランニングコストを追求した露光用エキシマレーザを次々と発売してきました。
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2011年7月12日

EUV光源で磁場によるデブリ除去技術を実証
ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/ ）は、2012年初旬に出荷を予定しているEUV露光用LPP光源にて、同社の独自技術である磁場によるデブリ除去技術を実証したと発表しました。
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2011年5月18日

ギガフォトン、コマツの全額出資の子会社となる
ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/ ）は、本日コマツが同社の50%株式をウシオより買い取ったことにより、コマツの全額出資の子会社となりました。
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2011年4月25日

株式大量異動に関するお知らせ
ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/ ）は、現在50%の株式を保有するコマツ（社長：野路國夫）が残り50％の株式をウシオ電機(株)＜以下、ウシオ＞（社長：菅田史朗）より買い取ることで合意したと発表しました。
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2011年3月25日

東北地方太平洋沖地震の当社への影響に関するお知らせ(第三報)
3月14日の第一報、3月16日の第二報に引き続き、以下に現時点での当社の状況と復旧見込の第三報をご連絡いたします。
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2011年3月16日

東北地方太平洋沖地震の当社への影響に関するお知らせ(第二報)
3月14日の第一報に引き続き、以下に現時点での当社の状況と復旧見込の第二報をご連絡いたします。
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2011年3月14日

東北地方太平洋沖地震の当社への影響に関するお知らせ
このたびの東北地方太平洋沖地震により、亡くなられた方々のご冥福をお祈り申し上げますとともに、 被災されたみなさま、そのご家族の方々に対しまして、心よりお見舞い申し上げます。 一日も早い復旧復興をお祈り申し上げます。

当社では地震発生後から直ちに従業員の安否を確認してまいりました。 本日までに、小山と平塚を始めとする日本国内各拠点で勤務している ギガフォトン株式会社の従業員全員の無事を確認することができました。
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2011年2月28日

ギガフォトン、EUV光の生成で最高変換効率3.3％を実証
高出力・低コストEUVリソグラフィ光源の実現に向けて大きく前進

ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、
http://www.gigaphoton.com/）は、すず(Sn)のプラズマからの極端紫外光（EUV）の生成において3.3％の変換効率（CE）を実証したと発表しました。これにより、高出力と低ランニングコストを達成する画期的なEUV光源が実現可能になります。この技術を搭載する最初の量産製品は既に組み立てが完了し、2011年の後半の出荷を予定しています。
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イベント情報

「ギガフォトンセミナー」開催

SEMICON Japan 2011 開催に併せて、ギガフォトンではプライベートセミナーを開催致します。 今回は、「最先端リソグラフィの課題と光源からのソリューション」をテーマに、国外大手デバイスメーカーのトップ技術者の方を講師にお迎えし、リソグラフィ技術の最前線についてお話いただくほか、ギガフォトンがご提案する技術面・製品面でのソリュー ションをご紹介します。


日　時 2011年12月9日(金)、15:00～17:15 (17:15～夕食及び歓談)
会　場 東京ベイ幕張「幕張ホール」
テーマ 「最先端リソグラフィの課題と光源からのソリューション」

プログラム(同時通訳あり)
15:00-15:15 「開催の挨拶」ギガフォトン株式会社　代表取締役社長　渡辺裕司
15:15-15:45 Updates of Lithography Technologies
株式会社東芝、デバイスプロセス開発センター、
リソグラフィプロセス技術開発部
部長　工学博士　東木達彦
15:45-16:15 Current Status for NXE EUV Scanners and Expectation to Source Suppliers
エーエスエムエルジャパン株式会社
テクニカルマーケティング ディレクター
森崎　健史
16:15-16:45 EUV Lithography Development Status
Mr. YoonSuk Hyun
Senior Engineer, Research & Development Division
DRAM Process AP Team
HYNIX Semiconductor Inc.
16:45-17:15 ギガフォトン
LPP EUV 光源開発の現状とロードマップ
ギガフォトン株式会社
事業推進部　副部長　工学博士
住谷　明
17:15 - 会食

セミナーお問い合わせ
ギガフォトン株式会社 営業部　業務課 : 長谷川　雅彦
TEL: 0285-28-8415 FAX: 0285-28-8439
E-mail: masahiko_hasegawa@gigaphoton.com

 

2011 International Symposia on Extreme Ultraviolet Lithography and Lithography Extensions　におけるギガフォトンの発表予定

ギガフォトンは、10月17日(月)～10月21日(金)に米国フロリダ州マイアミのJWマリオットマーキーズマイアミで開催される「2011 International Symposia on Extreme Ultraviolet Lithography and Lithography Extensions」で次の論文発表を行います：

■ プレゼンテーション発表　10月17日（月）、11:45 - 12:05

Development of LPP-EUV Source for HVM EUVL
Author(s): Junichi Fujimoto, Hiroaki Nakarai, Tsukasa Hori, Satoshi Tanaka, Yukio Watanabe, Yasufumi Kawasuji, Takeshi Ohta, Tamotsu Abe, Hakaru Mizoguchi
Gigaphoton Inc., Komatsu Ltd.

■ ポスター発表　 10月17日（月）、17:40 – 19:40; 10月18日（火）、14:30– 16:00

Investigation on high conversion efficiency and Tin debris mitigation for laser produced plasma EUV light source
Author(s): Toru Suzuki, Tsukasa Hori, Tatsuya Yanagida, Takayuki Yabu, Hitoshi Nagano, Yasunori Wada, Soumagne Georg, Junichi Fujimoto, Hakaru Mizoguchi
Komatsu Ltd., Gigaphoton Inc.

■ ポスター発表　 10月17日（月）、17:40 – 19:40; 10月18日（火）、14:30– 16:00

Efficient EUV Emission by Double-pulse Irradiation on Tin Droplet
Author(s): Atsushi Sunahara, Katsunobu Ninishihara, Richard More, Akira Sasaki, and Tsukasa Hori, Junichi Fujimoto, Hakaru Mizoguchi
Institute for Laser Technology, Japan, Institute of Laser Engineering, Osaka Univ., Lawrence Berkley National Lab, USA,
JAEA Kansai Advanced Photon Research Institute, Japan, Komatsu Ltd., Gigaphoton Inc.

■ プレゼンテーション発表　10月20日（木）、14:25-14:50

Performance of Bandwidth Tuning Laser for Focus Drilling
Author(s): Takahito Kumazaki, S. Tanaka, H. Tanaka, Y. Watabe, S. Matsumoto, T. Matsunaga, J. Fujimoto
Gigaphoton Inc.

SPIE Advanced Lithography 2011におけるギガフォトンの発表予定

ギガフォトンは、2月27日(日)～3月3日(木)に開催される「SPIE Advanced Lithography 2011」（会場: 米サンノゼ・コンベンション・センター、サンノゼマリオットホテル）で出展（小間番号119）及び次の論文発表を行います（ギガフォトンが参画しているEUVAの発表も含まれています）：

■ プレゼンテーション発表 3月1日（火）、8:00 AM

100W 1st generation laser-produced plasma source system for HVM EUV lithography
Paper 7969-7
Time: 8:00 AM - 8:20 AM
Author(s): Hakaru Mizoguchi, EUVA (Japan) and Komatsu Ltd. (Japan); Tamotsu Abe, Yukio Watanabe, EUVA (Japan); Takanobu Ishihara, Takeshi Ohta, Tsukasa Hori, Akihiko Kurosu, Hiroshi Komori, Kouji Kakizaki, Akira Sumitani, Komatsu Ltd. (Japan); Osamu Wakabayashi, Hiroaki Nakarai, Junichi Fujimoto, Akira Endo, EUVA (Japan)

■ポスター発表、3月2日（水）、 6:00 PM

Characterization and optimization of tin particle mitigation and EUV conversion efficiency in a laser-produced plasma EUV light source
Paper 7969-100
Author(s): Tatsuya Yanagida, Komatsu Ltd. (Japan) and EUVA (Japan); Hitoshi Nagano, Komatsu Ltd. (Japan); Takayuki Yabu, Shinji Nagai, Georg Soumagne, Tsukasa Hori, Komatsu Ltd. (Japan) and EUVA (Japan); Kouji Kakizaki, Komatsu Ltd. (Japan); Akira Sumitani, Komatsu Ltd. (Japan) and EUVA (Japan); Junichi Fujimoto, Hakaru Mizoguchi, Gigaphoton Inc. (Japan); Akira Endo, Forschungszentrum Dresden-Rossendorf e.V. (Germany)

Development of the reliable 20-kW class pulsed carbon dioxide laser system for LPP EUV light source
Paper 7969-99
Author(s): Junichi Fujimoto, Takeshi Ohta, Krzysztof M. Nowak, Takashi Suganuma, Hidenobu Kameda, Toshio Yokoduka, Koji Fujitaka, Masato Moriya, Gigaphoton Inc. (Japan); Akira Sumitani, EUVA/Komatsu Ltd. (Japan); Hakaru Mizoguchi, Gigaphoton Inc. (Japan); Akira Endo, Forschungszentrum Dresden-Rossendorf e.V. (Germany)

■プレゼンテーション発表、3月3日（木）、 5:10 PM

Ecology and high-durability injection locked laser with flexible power for double-patterning ArF immersion lithography
Paper 7973-55
Time: 5:10 PM - 5:30 PM
Author(s): Hiroshi Umeda, Gigaphoton Inc. (Japan)


編集者各位：ギガフォトンは、SPIE Advanced Lithography 2011 において、出展を予定しています。ギガフォトン及び同社の技術と製品に関する詳細につきましては、小間番号119 にお立ち寄りください。