ギガフォトンが発行するプレスリリース、参加するイベント情報をご紹介します。

プレスリリース

2010年4月26日

EUV光源で出力100W超を達成
高出力と安定性･経済性を追求した独自技術によるEUV露光用LPP光源の量産化計画が前進

ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、
http://www.gigaphoton.com/）は、参加している技術研究組合 極端紫外線露光システム技術開発機構(Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association、以下: EUVA、本部: 神奈川県川崎市、理事長　:牛尾治朗、http://www.euva.or.jp/)がEUV露光用LPP光源開発プログラムの中で、104Wの出力を達成したとの発表を受け、その製品化に着手しました。ギガフォトンはEUVAの参加企業の一社として2002年からEUV露光用LPP光源の開発に取り組んでおり、すず(Sn)と炭酸ガスレーザの組み合わせや、磁場を使ったデブリ除去などユニークな方式を提案してきました。このたびの発表は、これまで検証を積み重ねてきた要素技術を組み合わせて実証された性能であり、ギガフォトンでは2011年に予定されている製品出荷へ向けての大きな一歩と位置づけています。 続きを読む