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平成16年12月1日

ギガフォトン、新製品「GT40A」を発表
業界初の露光用インジェクションロックArFエキシマレーザ

ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/ ）は、65 nm以下のデザインルールに対応するリソグラフィ用光源として、量産機としては業界初のインジェクションロック技術を搭載したArF（フッ化アルゴン）エキシマレーザ「GT40A（発振波長: 193 nm、発振周波数: 4,000 Hz）を開発したと発表しました。現在、露光装置メーカーによるインテグレーションを含む評価が行われており、ギガフォトンでは2005年中頃の発売を予定しています。

今日の半導体製造プロセスでは、更なる生産性向上を目指して、ウェーハサイズが200 mmから300 mmに移行しつつあります。また、最先端デバイスの製造工程では、ますます加速化する回路パターンの微細化に対応すべく、露光装置用光源はKrFエキシマレーザに代わって、ArFエキシマレーザが主流となってきました。

ギガフォトンは、いち早く市場の要求に応えるために、100 nm以下ノードに対応するDUV光性能と、低ランニングコストを特長とするArFエキシマレーザ、「G41A/42A」シリーズを開発・販売してきましたが、次世代デバイスの一層の微細化要求に応えるために、65 nm以下の技術ノードに対応する新製品、4kHz ArFエキシマレーザ「GT40A」を開発したものです。

GT40Aの特長

1. 量産機として、業界初のインジェクションロック技術を採用
   
   量産機として、業界初のインジェクションロック技術(*)を採用し、45 Wの高出力（従来比2倍超、当社比）と、半値全幅では0.2ピコメートル、E95では0.5ピコメートルという、業界最高水準のスペクトル線幅のDUV光を、高度に安定して発振することができます。
   
   (*)インジェクションロック技術とは、非常に狭いスペクトル幅にチューニングし発振させた低出力のレーザ光（Master）を、大出力のレーザ共振器（Amplifier）に注入し、レーザ共振により増幅する技術で、従来困難とされていた狭いスペクトルと高出力の両立を可能とする技術です。
   
   
2. 露光装置光学系へのダメージ軽減のため、レーザパルスエネルギーのピークエネルギーを大幅に低減しました。
   
   
3. 半導体工場で必須とされる高信頼性・高稼働率を実現するために、新開発の高度自己診断機能(self diagnosis)を搭載しているほか、モジュール交換性など、サービス性を大幅に改良しました。

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ギガフォトン株式会社は2000年、世界2位の建設機械メーカー「コマツ」と、世界最大手の露光用ランプ・メーカー「ウシオ電機株式会社」の合弁会社として発足しました。以来、世界に先がけて次々と半導体リソグラフィ装置向け最新鋭エキシマレーザを製品化し、ギガビット世代の超微細集積回路に対応するリソグラフィ技術の発展に貢献しています。ギガフォトンは、世界2位の露光用エキシマレーザメーカーとして、日本を含むアジア市場ではほとんど全ての半導体メーカーで製品が使用されているほか、欧米市場でも急成長を続けています。

社名、ロゴ、G41A, G42A, GT40Aは、株式会社ギガフォトンの商標です(申請中含む)。記載内容は予告なしに変更される場合があります。ギガフォトンは、プレスリリースの記載内容が将来の諸事由で変更された場合、内容の更新または訂正発表する責任を持ちません。

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