セミコン・ジャパン2002が、12月4〜6日の3日間、千葉県の幕張メッセで開催され、半導体不況にも係らず国内外から多くのお客様が来訪されました。

ギガフォトンブースへは露光機メーカ、半導体メーカの技術者が多数訪問され、現行プロセスからEUV露光等の次世代技術まで幅広い話題で盛り上がりました。

渡辺社長は、お客様とのお話を通じて、ギガフォトンが半導体産業に貢献する為のニーズ・チャンスは現在・今後とも大いにあり、力強い感触を得ることが出来たと語りました。

ギガフォトンの今後にご期待ください。

ギガフォトン（社長：渡辺 裕司）は、80 nm以下のデザインルールに対応するリソグラフィー用光源として、ArF（フッ化アルゴン）エキシマレーザー「G42A」（発振波長：193 nm、発振周波数：4,000 Hz）を開発し、販売を開始しました。

このほど販売開始した「G42A」は、2001年に発売しお客様より高い評価を頂いている100 nmデザインルール対応の「G41A」をベースにしています。新たにスペクトル幅（半値全幅）を従来の0.35 pmから0.3 pmに改良することにより、80 nmデザインルールへの対応を可能にしたものです。

ギガフォトンは2000年8月にコマツとウシオ電機の合弁会社として発足し、露光装置用エキシマレーザーの開発・製造・販売・サポートを行っています。2002年10月に新社長に就任した渡辺裕司氏は、「ArFレーザーは正に普及時代を迎えつつあり、G40Aシリーズは昨年から、お客様の実地テストにおいて高い評価を頂いている。G42Aシリーズはお客様の強いご要望に対応し開発した。実用性の高いシングルチャンバーレーザとして、最も狭いスペクトル幅と、すぐれたエネルギー安定性を達成することができた」と述べています。