营运实绩和预测


2004 年,GIGAPHOTON 领先世界,实现了采用注入锁定(Injection-locked)技术的双室量产型 ArF 准分子激光机商品化。其后随着曝光装置的技术进步,持续向市场供应支持浸没式曝光、双重曝光等技术的最新型 ArF 准分子激光机,在 Gigabit 世代超微细集成电路的光刻技术发展方面多有贡献。 时至今日,除了获得包括日本在内的亚洲市场几近全数半导体业者的青睐外,在欧美市场也保持着高度增长。其结果是,由2000 年创立当时仅不到一成的全球市场占有率跃升至如今的近 50%,表现令人惊异。 今后,GIGAPHOTON 以全球 No.1 准分子激光机供货商身份,希望在全球扎实成长,赢得客户信誉,并将在提升生产率方面做出贡献。<

着手于次世代曝光技术

GIGAPHOTON 也正在积极着手开发次世代曝光技术的有力接班人--极端远紫外光源(EUV)。2002年至2010年担任了技术研究组织极端远紫外光源曝光系统技术开发机构(Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association: EUVA))的发起会员,在曝光光源开发方面扮演着重要角色。GIGAPHOTON 目前开发采用脉冲激光照射目标物,发生高温电浆以产生 EUV 同步辐射的激光生成电浆(Laser Produced Plasma: LPP)方式 EUV 光源。目前已进入量产机的开发阶段,正在稳步向前推进。