公司历史

GIGAPHOTON 株式会社创立于 2000 年,可以说是颇为年轻的公司,但却是继承了小松制作所在激光产品技术开发方面多年积累的经验与实绩。

小松制作所的激光技术历史悠长,可上溯至1980年开始销售用于引擎燃烧诊断的 CARS(Coherent Anti-Stokes RamanSpectroscopy:染料激光=Dye Laser)系统。此后,小松制作所转而研发准分子激光机,1985 年推出日本首部准分子激光机 KLE-630,1987 年推出全球首台曝光用准分子激光机 KLE-630S。

东京大学物性研究所与小松制作所共同研发 KrF,90Hz 准分子激光机

1984 年 东京大学物性研究所与小松制作所共同研发
KrF,90Hz 准分子激光机。
(出处: 日本工业新闻)

1996 年,小松制作所创设准分子激光事业部,又于 1997 年在栃木县小山市兴建准分子激光机生产工厂。同年并推出量产型 1 kHz KrF 准分子激光机 KLES-G10K(目前的 G10K 系列)。1998年,推出 2 kHz KrF 准分子激光机 G20K 系列,以日本及亚洲区域为中心顺利提高了市场占有率。

2000年起设立 GIGAPHOTON 株式会社,2001 年推出 4 kHz ArF 准分子激光机 G40A 系列,2002 年推出 4 kHz KrF 准分子激光机 G40K 系列。

2004 年底推出支持浸润 ArF 曝光的注入锁定式 ArF 准分子激光机 GT40A,更接连于 2005 年推出震荡频率达 1.5 倍之 6,000 Hz 机种 GT60A;2006 年推出大幅改善光谱带宽及营运成本的机种 GT61A;2007 年推出支持浸没式双重曝光、输出达 90W 的机种 GT62A,新产品相继问世。

在作为次世代光刻光源备受瞩目的 EUV 光源开发方面,更是加入「技术研究组极端远紫外曝光系统技术开发机构(Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association; EUVA)」,对于 LPP 方式技术发展有着卓越的贡献。

准分子激光技术历史与 GIGAPHOTON 公司沿革(年表)


  • 全球首度成功激发准分子激光(苏联)

  • 小松制作所推出应用 CARS(Coherent Anti-Stokes Raman Spectroscopy)技术之引擎燃烧诊断系统

  • 小松制作所推出 KrF 准分子激光机 KLE-630(日本首台准分子激光机)

  • 小松制作所推出 KLE-630S(2 W):全球首部曝光用 KrF 准分子激光机

  • Lambda Physik 公司涉入曝光用准分子激光市场

  • Cymer 公司涉入曝光用准分子激光市场

  • 小松制作所创设准分子激光事业部

  • 小松制作所于小山兴建准分子激光机生产工厂

  • 创立 Gigaphoton 株式会社

  • Gigaphoton 设立美国分公司 “Gigaphoton USA Inc.”

  • GIGAPHOTON 凭借注入锁定 ArF 准分子激光机 GT62A,荣获第一届激射学会产业奖系统部门“优秀奖”

  • GIGAPHOTON 于 EUV 光源输出达成超越 100W 的成果

  • Gigaphoton 设立 100%出资的荷兰当地法人 “Gigaphoton Europe B.V.”,并展开事业活动

    Gigaphoton 的曝光用准分子激光机出货量累计达到 1,000台

  • Gigaphoton 设立 100%出资的韩国当地法人“Gigaphoton Korea Inc.”,并展开事业活动

    Gigaphoton 设立 100%出资的台湾当地法人“极光先进雷射股份有限公司(Gigaphoton Taiwan Inc.)”,并展开事业活动

  • Gigaphoton 设立新加坡子公司,展开事业活动