GIGAPHOTON研究部技术顾问铃木章义先生获得“SPIE Frits Zernike Award”奖、CTO 沟口计先生当选研究员

2019年2月6日

在同行业取得的显著业绩、对学会作出的巨大贡献受到充分肯定

栃木县小山市;2019年2月6日 — 半导体光刻光源制造商GIGAPHOTON株式会社(总部:栃木县小山市、董事长兼总经理:浦中克己)宣布,在国际光学工程学会(The International Society for Optics and Photonics:SPIE)上,GIGAPHOTON的研究部技术顾问铃木章义先生获得“SPIE Frits Zernike Award in Microlithography”奖、副总经理兼CTO沟口计先生当选SPIE研究员。

光刻技术领域的主要学会SPIE于2002年设立了Frits Zernike Award奖,以曾于1953年因位相差显微镜获得诺贝尔物理学奖、给光刻技术带来了巨大影响的Zernike博士的名字命名,是一项很有权威的奖项,可以说是“光刻界的诺贝尔奖”。该奖只颁发给在所属行业作出突出贡献的人员,获奖人员迄今已有14名,但铃木先生是获得该奖的首位
日本人。在40余年的职业生涯中,对于接触式曝光机、1:1扫描仪、g线、i线、KrF步进器、KrF/ArF/液浸扫描仪、EUV曝光机、NIL等,铃木先生对从黎明期到现在所有光刻设备的技术革新方面做出了突出的业绩,此次获奖也是对他本人的充分肯定。
铃木先生作了这样的发言。“产业界的人员能够获得SPIE这一学术团体颁发的奖项,有力地证明了我们正在研发的光刻技术具有很强的科学性,是具有挑战性的高科技产业的一部分。非常感谢与我一起共事的同仁们。”

GIGAPHOTON副总经理兼CTO沟口计先生长期以来为光刻技术作出了重大贡献,被选为SPIE的研究员。在至今约30年的时光里,从DUV激光(KrF/ArF/F2)到EUV光源,沟口先生拥有突出的尖端产品开发业绩,发表了100多篇论文,能够获得这一称号可以说是实至名归。光源技术人员能够当选研究员,这在全世界还是第一次。另外,此次沟口先生的当选,SPIE学会中与光刻相关的日籍研究员共有6名,包括前述的铃木先生、OB的岡崎信次先生在内,有3名人员都与GIGAPHOTON相关。
沟口先生作了这样的发言。“本次能够当选研究员,不光是因为发表论文,还因为是对将论文中的技术变成实实在在的产品、对GIGAPHOTON以及相关人员所付出的努力的充分肯定。在此,我除了要与大家分享快乐外,还要对大家表示衷心感谢。今后我会一心一意地推进技术开发并培养后继人员,决不会让研究员这一称呼蒙羞。”
 
*2/25 铃木先生、沟口先生在“SPIE Welcome and Plenary presentations”颁奖仪式上。
*2/28 铃木先生、沟口先生在“GIGAPHOTON-SPIE Lunch Session”上发表演讲。
 

         

 <铃木章义>                                        <沟口计>

 
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