GIGAPHOTON于今年8月份推出新型ArF干式光刻光源 “GT45A”

2019年9月17日

引入最先进的ArF浸没式光刻光源技术,以满足用户的进一步需求

栃木县小山市;2019年9月17日 — 半导体光刻光源制造商GIGAPHOTON株式会社(总部:栃木县小山市、董事长兼总经理:浦中克己)宣布,新型ArF干式光刻光源GT45A已于今年8月份上市。

在最先进的半导体制造工艺中,技术节点10/7nm(纳米)的微细工艺成为主流,今后通过引入EUV光源的面向7nm以下的微细化技术将备受瞩目。另一方面,随着IoT的普及,14-65nm等技术成熟节点的需求将增加,预计可通过新投资来扩大生产能力和升级现有工厂进行应对。因此,需要进一步改进干式曝光装置,同时必须保证曝光装置的高生产率和高运转率(Availability)。

GT45A通过应用生产现场已引入的下述ArF浸没式光刻光源技术,具备可以满足用户广泛需求的功能扩展性。

  • 主要模块的寿命比以往产品提高50%,实现光源的更高运转,可以提高装置运转率。
  • 最大输出功率达到90W,可以进一步提高生产率。
  • 支持4kHz~6kHz的重复频率,可以满足各种曝光机的要求,有助于提高曝光光学性能。

 
Gigaphoton董事长兼总经理浦中克己表示:“GT45A通过应用在开发ArF浸没式光刻光源时培育的技术,可以针对广泛的客户需求,提供基于最先进技术的最佳解决方案。今后,GIGAPHOTON将继续提供满足客户需求的最佳功能,为半导体制造行业做出更大的贡献。”

 

GIGAPHOTON公司简介

GIGAPHOTON公司成立于2000年,作为一家激光器的供应商,自成立以来一直为全球的半导体生产厂商提供有价值的解决方案。GIGAPHOTON时刻以客户为中心,从产品研发到生产、销售及维护,为用户提供业界最高水准的支持。更为详细的介绍请您访问:www.gigaphoton.com

 
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