GT63A

浸润多重曝光装置专用次世代 ArF 准分子激光机“GT63A”

GT63A

GT63A 为 GT 系列最新机种,采用注入锁定方式,即所谓第五代 GT(GigaTwin)平台。
GT63A 系列投入可实现广泛聚焦深度的光谱控制技术(sMPL) *1)、可达到低运行成本的共振腔技术(sGRYCOS)、可实现高劳动效率的气体控制技术(sTGM)、可达成高稳定性的监控技术(sMONITORING)等四大「s」系列功能,凭借尖端技术为客户创早更多价值、获得更多信赖。
GT 系列获得全球各国主要客户大量采购,其设计构思、可靠性均获高度评价。
GT63A 的平台设计与既有的 GT 系列系出同门,寻求极限共享化,对用户而言,从装置引进起便能期待高度可靠性。


GT63A的特色:四大「s」系列功能

1. sMPL

sMPL(光谱多复位位 LNM;Spectrum Multi Positioning LNM)技术可提高光谱控制带宽至既有 10 倍以上,达成以激射聚焦钻孔确保广泛聚焦深度之功能。搭载 sMPL 技术后,既有技术难以执行的接点、沟槽、通孔等曝光中放大制作程序窗口工作,可在不导致 CDU、迭合、生产性恶劣影响下完成。且 sMPL 经曝光装置制造商、芯片制造商共同进行量产试验,有效性已获证明。

2. sGRYCOS

sGRYCOS(60 GIGAPHOTON 回收共振腔操作系统;Sixty Gigaphoton Recycled Chamber Operation System)技术将准分子激光主要更换零件寿命提高至既有的 1.5 倍,达到低运行成本的需求。提高符合 sGRYCOS 需求全新开发的共振腔预电离强度,加以 GT 系列搭载了行有余力的脉冲功率电源,能提升能量极限,获得耐久性较现有产品大幅提高的成果。

3. sTGM

sTGM(极致气体总量管理;Supreme Total Gas Manager)技术在波长校正方式上下功夫,免去了现有机种每 2 周需更换一次激射气体的困扰,达成高劳动效率与低成本运转目的。GT 系列培养而成的气体控制技术,可一面回馈效能,一面确保激射共振腔内最佳的气体状态。本次更借由专为 sTGM 新开发的绝对波长校正模块,排除原先绝对波长校正时更换气体的必要性,兼具缩减停机时间与降低气体成本的优点。

4. sMONITORING

sMONITORING(智慧监控;Smart Monitoring)技术为在线实时监控激射效能功能,亦可连接客户既有之 FDC(故障侦测与分类;Fault Detection and Classification)系统,为装置稳定运转做出贡献。

主要规格*

发射波长 193 nm
平均输出功率 60/90 W
脉冲能量 10.0/15.0 mJ
发射频率 6,000 Hz
光谱幅度(以 95 %能量累计,E95) 0.3 pm
(*) 上述各规格值为代表值