GT64A

支持 450mm 晶圆多重曝光装置先进的 ArF 准分子激光机

GT64A

GT64A 秉承“降低环境负担”的理念,以极尽压缩的总操作成本实现了世界最高等级的 120W 高输出功率、高发光性能以及稳定性。
为了追求性能与效率最大化以从而成为客户半导体量产体制的后盾,GT64A 采用注入锁定方式,即所谓第六代 GT(GigaTwin)平台。
继承了 GT 平台优异的双室结构、输出控制算法以及光束定位科技,并且达到 120W 高输出功率、高发光性与稳定性,为您提供全球顶级的可靠性、复原时间以及模块使用寿命。同时应对客户对于 ArF 准分子激光机的性能提升、降低总操作成本的需求。


特色

1. 全球顶级效率以及 120W 大输出功率
GT64A 采用注入锁定方式,达到全球顶级激光束发效率,更以此为基础,于 450mm 晶圆多重曝光方面亦实现保证高产量的 120W 大功率。

2. 自动可变输出
输出支持自动可变,可对于客户制作程序,供应最适宜的发光量。此外,本功能可避免激发无谓的激射光,对于降低运行成本、降低环境负担也非常有效。

3. 激光束高稳定性
为求实现多重曝光最为重要的多重迭合精密度(Overlay)、控制临界尺寸以及降低光刻线边缘粗糙度 (LER),在所有输出区域达成高稳定性(能量、光谱、光束形状)与长脉冲带宽。

4. 低环境负担
将开发理念定为“降低环境负担”,极度抑制电力、气体、冷却源等设备成本,并获得成功。不仅降低了总操作成本,更符合社会潮流,抑制对环境的负面影响。


主要规格*
发射波长 193 nm
平均输出功率 60 - 120 W
脉冲能量 10.0 - 20.0 mJ
发射频率 6,000 Hz
光谱幅度(以 95 %能量累计,E95,) 0.25 pm
(*) 上述各规格值为代表值