GT65A

适配亚10 nm节点浸润式曝光机、为提高生产力做出贡献的ArF准分子激光机

GT65A作为采用注入锁定方式的第7代平台,引入了最先进的技术,通过光谱带宽(E95)可变及稳定性提高实现的“曝光性能改善”、组件寿命延长实现的“高劳动效率”及无氦实现的“减轻环境负荷”,帮助客户进一步实现生产率(晶元输出)的提高。


特色

1. 光谱带宽(E95)可变
根据客户的各式不同需求及用途,光谱带宽可进行对应变化。作为使用示例,可用光谱宽度修正不同代曝光机的对比度性能差异。另外,还可通过光谱带宽可变功能来匹配设备之间或掩模之间的OPC特性1
*1)根据所连接的曝光机不同,功能有所差异。

2. 光谱带宽(E95)稳定性提高
光谱带宽控制速度成功提高为原来的20倍。这使得设备操作期间光谱宽度更稳定,并能够减少临界尺寸偏差。

3. 组件寿命延长
通过延长主要组件的寿命,进一步实现维修频率的降低。这使得设备能够长时间运转。

4. 无氦
引入零氦运转ArF准分子激光的技术,实现客户的成本缩减并减轻环境负荷。


主要规格*
发射波长 193 nm
平均输出功率 ≥60 W
脉冲能量 10.0 - 20.0 mJ
发射频率 6,000 Hz
光谱幅度(以 95 %能量累计,E95,) 0.20 – 0.45 pm
(*) 上述各规格值为代表值