G60K

可达到以往产品的150%高输出且满足未来进一步输出要求的KrF光刻用光源

G60K
 
KrF光刻光源G60K以继承Gigaphoton多年技术和积累经验的KrF光源技术为基础,支持超过300片/h的光刻机处理速度,通过输出功率达到以往产品的150%,并将模块寿命延长到最高200%,为改善可用性提供帮助。G60K还兼具扩展性,通过新开发的电源和模块来支持未来高输出、高频率等性能改进,满足对未来KrF曝光技术的要求。还标配无氦技术,有助于减少气体的消耗量。


主要特点

  1. 支持300片/h扫描型光刻机处理量所需的高输出
    通过导入新型电源单元,可以实现60W输出功率,达到以往产品的150%。由此,厚膜光刻胶等低灵敏度光刻胶也能抑制处理量损耗,并有助于进一步提高生产性。
  2. 继承已有实绩且支持99.9%以上的可用性技术
    以在现场高可用性和性能稳定性方面备受客户好评的机型、G41K技术为基础,实现在所有输出范围高达99.9%以上的可用性。还通过投入新技术,将模块寿命延长至200%,为提高可用性提供帮助。
  3. 提供可持续发展解决方案
    该光源标配无氦技术,除可以防备稀有气体供给不足的风险外,还能通过气体消耗量削减技术实现更环保。

主要规格*
振荡波长 248 nm
输出 40W - 60W
脉冲能量 10mJ - 15mJ
振荡频率 4000Hz
特点 Continuous Reliability Improvement (CRI) Package
可持续发展解决方案
・Helium Free Operation
・TGM Gas Management
(*) 上述各规格值为代表值