4. sMPL(光谱多复位 LNM;Spectrum Multi-Positioning LNM)技术

由于CD随半导体微型化而变小,形成接触窗时的聚焦深度(DOF)变浅的问题浮上了台面。GIGAPHOTON 为解决这一问题的方法之一,就是研发让激光光谱宽度大幅可变以扩张 DOF 的技术。
图 10 显示了使用曝光仿真器 prolith v9.3 改变光谱宽度时的 DOF 变化。

相对既有 E95=0.3 pm 的光谱宽度,当加粗至 E95=2.4 pm 时,获得确保了既有 DOF 4.5倍以上的结果。

图 10 光谱性能与 DOF
图 10 光谱性能与 DOF

GIGAPHOTON 采用如下图 11 所示的 LNM 内部切换模式的方式,研发出维持既有 E95=0.3 pm 的输出不变,却让 E95 加粗至 2.4 pm 的技术。而当时的光谱波形几为近似,不致影响曝光机聚焦镜的设计。


图 11 光谱可变方式与实际验证的光谱波形

这一技术经曝光装置制造商、芯片制造商共同进行量产试验,有效性已得到证明。