• 简体中文  
    • English
    • 日本語
    • 简体中文
    • 正體中文
    • 한국어

Gigaphoton Inc.

  • 公司信息
    • 公司简介
    • 营运实绩和预测
    • 公司历史
    • 经营团队
    • 所在地地图
  • 产品
    • Excimer Lasers for Lithography Applications
      • ArF Immersion
      • ArF Dry
      • KrF
    • 其他
      • GIGANEX Series
  • 质量
    • 最尖端工厂
    • G能塾
    • 提升可靠度
  • 客户支持
    • 维修
    • 远程装置数据管理（REDeeM）的有效利用
    • 培训
  • 技术信息
    • 激光是什么
    • GigaTwin Platform
    • E95与光刻制程
    • Bandwidth Control Module
    • EUV 专题
    • 显示面板的激光退火
    • Technical Paper
  • 最新消息
    • 最新消息
    • 活动信息
    • 胜利
    • 专访
  • 求贤信息
Gigaphoton Inc.

Technical Paper

这里是技术论文资料室。

2012

  • 半导体曝光用 EUV 光源研发进展与最新动向

英文版请至此处阅览。

技术信息

  • 激光是什么
  • GigaTwin Platform
  • E95与光刻制程
  • Bandwidth Control Module
  • EUV 专题
  • 激光退火
  • Technical Paper
Gigaphoton Inc.

邮编:323-8558
栃木县小山市横仓新田400

  •  +81-285-28-8410 |  +81-285-28-8439
  •  web_info@gigaphoton.com
  • 公司信息
    • 公司简介
    • 营运实绩和预测
    • 公司历史
    • 经营团队
    • 所在地地图
  • 产品
    • ArF Immersion
    • ArF Dry
    • KrF
    • GIGANEX Series
  • 质量
    • 最尖端工厂
    • G能塾
    • 提升可靠度
  • 客户支持
    • 维修
    • 远程装置数据管理（REDeeM）的有效利用
    • 培训
  • 技术信息
    • 激光是什么
    • GigaTwin Platform
    • E95与光刻制程
    • Bandwidth Control Module
    • EUV 专题
    • 显示面板的激光退火
    • Technical Paper
  • 最新消息
    • 最新消息
    • 活动信息
    • 胜利
    • 专访
  • 求贤信息
    • Overview

© Gigaphoton Inc. All rights reserved.

    • 隐私权政策
    • 网站地图
    • 相关链接
    • FAQ
    • 咨询窗口
    • 隐私权政策
    • 网站地图
    • 相关链接
    • FAQ
    • 咨询窗口

  • English
  • 日本語
  • 简体中文
  • 正體中文
  • 한국어

© Gigaphoton Inc.