Gigaphoton 宣布「氖氣救援計畫」

Gigaphoton制定綜合性方案解決氖氣供應危機

栃木県小山市, 2015年7月8日--微影光源主要製造商Gigaphoton, Inc.(本社: 栃木県小山市 總裁兼執行長:都丸 仁) 繼2014年11月發表ArF浸潤式雷射「GT Series」減少 Gas使用量的技術「eTGM」限時免費(*1)計畫之後,再次宣布推出全機種雷射「氖氣救援計畫」。

目前應用於半導體製程中的ArF 和 KrF雷射的緩衝氣體為氖氣,目前烏克蘭為氖氣的主要生產國,但由於國內危機持續不斷,近年來氖氣供應減少已成為一個突出問題且正在引起人們的普遍擔憂。擔憂的原因不僅在於氖氣價格上漲,同時2015年的供應開始擴大為是否會有短缺的疑慮(*2)。對於作為全球氖氣主要消費者的半導體產業而言,這是一場嚴峻的局面。

因應這次危機,Gigaphoton為了提供客戶穩定生產的支援及解決氖氣供給危機,將推出「氖氣救援計畫」的配套措施,此配套措施包含了以下三個計畫

  1. 為客戶要求的新氣體供應商提供快速的資格認證方案。以前,新氣體供應商需要六至十二個月才能完成測試和資格認證。但現在根據新方案,客戶最快只需一個月時間便可使用新的氣體供應商。
  2. Gigaphoton限時免費的(*1) eTGM技術也將擴展到G41K系列KrF雷射器和GT40A系列ArF雷射器。這一擴展計畫將於2015年11月啟動。透過引進eTGM技術,KrF和ArF雷射器可減少25%的氖氣使用量,ArF浸潤式雷射器可減少高達50%的氖氣使用量。
  3. 加速推出Gigaphoton最新的氣體回收技術hTGM。該技術適用於所有類型的雷射器。hTGM預計於2016年上市。採用hTGM技術後,客戶將可以回收高達50%的消耗氣體。

結合以上三項配套措施「氖氣救援計畫」,Gigaphoton將提供針對降低氖氣消費量的支援及身受氖氣供給危機的半導體業界提供更安定的生產支援。

Gigaphoton 總裁兼執行長 都丸 仁表示:「氖氣是半導體製造業不可或缺的氣體,我們認識到在當前情況下,持續的供應危機是一個極為嚴重的問題,將會嚴重威脅生產的連續性。Gigaphoton將盡一切努力來支援客戶的穩定生產,為此我們推出了三大措施:提供快速氣體供應商資格認證、大幅減少氣體使用及儘早推出氣體回收技術。」

(*1) 免費期將持續到Gigaphoton認定氖氣供應問題已得到解決為止。該新聞稿中的內容根據新聞稿發表前所掌握的資訊,內容如有變更,恕不另行通知。
(*2) 根據Gigaphoton展開的一項研究。

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