GIGAPHOTON 發表新型雷射裝置監控解決方案 「REDeeMCloudTM

提供能達成開放式創新的應用平台

栃木縣小山市; 2015 年 7 月 8 日─曝光微影(Lithography)光源的主要製造商「GIGAPHOTON 株式會社」(總公司:栃木県小山市;代表取締役社長:都丸仁)發表了可遠端監控該公司生產的 半導體曝光裝置用準分子雷射之運作狀態、並支援開放式創新的新型工具軟體 「REDeeMCloudTM」。REDeeMCloudTM 使用了最新的 Web 技術,具備高擴充性及高客製性,能配 合使用者的各別需求提供不同的監控功能。

透過 REDeeMCloudTM 的前身軟體─「REDeeM」,GIGAPHOTON 的雷射裝置大幅降低了停機時 間,稼動率高達平均 99.8%。而今日,持續追求「摩爾定律」半導體製造商仍持續提出進一步降 低成本及追求微細化等的要求下,雷射被期待能夠對於製程性能及成本最適化達成比以往更 進一步之貢獻。而為了實現此要求,需要能夠提供更詳細雷射稼動資訊之監控及分析,且更親 和之應用軟體與平台。導入 REDeeMCloudTM 後,當然除了雷射的一般分析之資料外,也能以搭 配各種選配式功能及硬體的組合,客製出配合各個使用者需求之顯示方式及分析內容。

此外,因為 REDeeMCloudTM 使用了最新的 Web 應用技術及響應式網頁設計手法作為基礎,因 此能夠在各種環境下運作,不再受限於 OS、設備、畫面尺寸等因素。不僅能在 PC 上,也能在平 板電腦或智慧型手機上,以使用標準瀏覽器閱覽一般 Web 網頁的感覺輕鬆運用。

另外,作為 GIGAPHOTON 所推動的開放式創新之其中一環,今後使用者或夥伴也能夠運用 REDeeMCloudTM 開發獨自的擴充機能或使用者界面等功能。

GIGAPHOTON 代表取締役社長兼 CEO 的都丸仁先生為此做出以下發言。「我們很榮幸能夠以 提供如同 REDeeMCloudTM 般已進化之解決方案,朝向今後軟體開發之未來願景踏出了第一步。 我亦確信今後我們將以 REDeeMCloudTM 為主軸,加速與多元使用者及夥伴間開放式創新之合 作,並進而提供能對半導體業界有所貢獻的解決方案。」

REDeeMCloudTM 預定將自 7 月起依序提供給客戶。

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