Gigaphoton供給最新版ArF準分子雷射器GT65A

最大可縮短50%的微影光源中斷時間 為提高微影光源裝置稼動率做出極大貢獻 因應半導體需求的不斷高漲

日本栃木縣小山市--(BUSINESS WIRE)-- (美國商業資訊)--半導體微影光源的主要供應商Gigaphoton株式會社(母公司:栃木縣小山市,董事長:浦中克己)發布公告指出,公司1月份已經向客戶供應最新半導體產品以滿足近年來不斷高漲的需求,適用於最先進的浸潤式漏光(微影)裝置的ArF準分子雷射器GT65A 1號機。GT65A改善了雷射器的穩定稼動性能及製程範圍,為提高微影裝置的生產力做出了極大貢獻。

GT65A最多可縮短50%的中斷時間,這一特徵是透過將作為主要模組的腔體壽命延長30%,並以Gigaphoton迄今為止累積的經驗和技術為基礎,提高維修效率而實現的。

另外,具有光譜控制功能的穩定化技術eMPL Solid,以及控制功能hMPL提高了CD的均一性,並且最佳化製程,使延展性成為可能。

同時,GT65A實現了不使用氦氣的目標,這不僅減輕了環境負荷,而且大幅度降低了未來氦氣供給不足以及價格飛漲的風險,為客戶提高環境永續發展及CRS活動做出了貢獻。

Gigaphoton董事長浦中克己發表評論說:「近年來半導體市場發展良好,提高微影裝置的稼動率成為各廠商的重要課題。我們將沿著新技術藍圖RAM Enhancement,採用新技術,進一步強化並改善微影光源的可靠性(Reliability)、稼動率(Availability)、維修效率(Maintainability),為半導體製造業做出貢獻。」

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Gigaphoton公司簡介

Gigaphoton公司成立於2000年,作為一家雷射器的供應商,自成立以來一直為全球的半導體生產廠商提供有價值的解決方案。Gigaphoton時刻以客戶為中心,從產品研發到生產、銷售及維護,為用戶提供業界最高水準的支援。更為詳細的介紹請造訪:www.gigaphoton.com

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