GIGAPHOTON新型ArF乾式光刻用光源 「GT45A」將在8月出貨

2019年9月17日

引進最尖端ArF液浸用光源技術,滿足顧客進一步需求

栃木縣小山市;2019年9月17日 — 半導體微影光源製造商Gigaphoton株式會社(總公司: 栃木縣小山市;總裁:浦中克己),宣布新型ArF乾式光刻用光源GT45A,將在8月正式出貨。

在最先進的半導體製程中,目前是以技術節點10/7nm(奈米)的微細製程為主流,而今後是否能藉由引進EUV光源,將製造技術推進至7nm以下的極微細化領域,更是備受關注的焦點。另一方面,隨著IoT技術普及,以14-65nm為首,技術已完全成熟的各類半導體製品需求量也跟著水漲船高,如何進行新投資增加產能、以及提升現有工廠生產技術,也成為業界當前最重要的課題。因此,必須設法進一步改善乾式曝光裝置,增加曝光裝置的產能及運作率(Availability)。

GT45A可適用於在生產現場已有相當實績的ArF液浸用光源技術,並具備能滿足用戶各種需求的機能擴充性。

  • 主要模組的壽命與既有產品相比,最高約提升50%,大幅拉長光源運作時間,有助於裝置運作率。
  • 輸出功率最高可提升至90W,使產能進一步提升。
  • 可對應4kHz~6kHz的反覆頻率,適用曝光機的各種需求,提升曝光光學性能。

 
Gigaphoton總裁兼執行長浦中克己指出:「在將GT45A結合開發ArF液浸用光源所培育的技術後,便可因應客戶的各種需求,藉由最尖端的技術,提供最適合的解決方案。GIGAPHOTON今後也將繼續因應顧客需求,提供機能最合適的產品,為半導體製造業界做出更進一步的貢獻。」

 

GIGAPHOTON公司簡介

GIGAPHOTON公司成立於2000年,作為一家雷射器的供應商,自成立以來一直為全球的半導體生產廠商提供有價值的解決方案。GIGAPHOTON時刻以客戶為中心,從產品研發到生產、銷售及維護,為用戶提供業界最高水準的支援。更為詳細的介紹請造訪:www.gigaphoton.com

 
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