GIGAPHOTON宣布將引進2020年最新雷射機種

2020年2月21日

配備能加速技術轉換的新技術

栃木縣小山市;2020年2月21日 — 半導體微影光源製造商Gigaphoton株式會社(總公司: 栃木縣小山市;總裁:浦中克己)發表了,2020年將增加全新產品,其中包括採用新技術之最新半導體製造光刻用光源ArF液浸用雷射器「GT66A」及KrF雷射器「G60K」2款產品。

近年來,由於IoT技術普及和AI技術實用化,導致半導體用途不斷增加,使得半導體晶片在通訊速度及數據處理量上的需求也跟著水漲船高,特別是在2020年,開始提供民用服務的5G(第五代行動通訊技術)網路技術中,低於10nm節點之小型、高速、低耗能的邏輯積體電路,以及足以儲存暴增數據量的大容量記憶體晶片,皆是不可或缺的元件。
新型ArF液浸用雷射器「GT66A」在配備新開發之光學模組後,成功降低空間同調的發生,並改善了曝光面之光束均勻度。新型KrF雷射器「G60K」則是在睽違約15年後,首次進行全面性修改,在引進新型電源元件後,成功讓功率較以往提升1.5倍。GIGAPHOTON也將運用這些新技術,來為晶片製造商提供各種協助。

Gigaphoton總裁兼執行長浦中克己表示:「由於引進IoT技術之產業機器和家電日益普及、再加上AI和5G技術,因此工廠、醫療、汽車、社會基礎設施等各項領域,都朝著即時及智能化的目標,不斷邁進。我們也將透過推出各種新技術之產品,來為新世代產業界發展做出貢獻。」

 

GIGAPHOTON公司簡介

GIGAPHOTON公司成立於2000年,作為一家雷射器的供應商,自成立以來一直為全球的半導體生產廠商提供有價值的解決方案。GIGAPHOTON時刻以客戶為中心,從產品研發到生產、銷售及維護,為用戶提供業界最高水準的支援。更為詳細的介紹請造訪:www.gigaphoton.com

 
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