Gigaphoton對應微細化最尖端要求之ArF光源GT66A正式開始量產出貨

2020年12月16日

提供能加速技術轉換的新技術

 栃木縣小山市;2020年12月16日,半導體微影光源製造商Gigaphoton股份有限公司(總公司: 栃木縣小山市;總裁:浦中克己)宣布採用新技術之最新半導體製造用ArF液浸用光刻光源「GT66A」已正式開始量產出貨。

在現今的最尖端製品製程中,邏輯製品的3nm節點已開始進行製程開發工作,而DRAM的1Znm節點製品也已開始進行量產。而在製造這些超細微製品時最大的課題,就是如何降低曝光圖樣轉印到晶圓上時的微影粗糙度,因此如何忠實重現迴路圖樣並提升良率,便顯得格外重要。

新型ArF液浸用光刻光源「GT66A」採用新開發的光學模組,使脈衝發光時間提升至原有之三倍以上,成功改善曝光面上之光束均勻度,從而降低轉印時的粗糙度。另外,更引進最新的高耐久性零件,使模組的保養維護周期延長了30%。

GT66A已完成荷蘭大廠ASML公司最新ArF液浸曝光裝置NXT:2050i的光源認証,並開始為終端用戶量產出貨光源。

Gigaphoton總裁兼CEO浦中克己表示:「近年來半導體晶片的開發訴求都是以提升通訊速度及處理更大量資訊為目標。為了達到這樣的目標,就必須進行邏輯及記憶半導體的微型化,並透過革新光刻技術來提高產能。Gigaphoton今後也將致力於透過技術革新來改善成像性能,並提升光源的Availability,以對新時代產業界之發展做出貢獻。」

關於GIGAPHOTON

2000年成立以來,GIGAPHOTON作為雷射光源製造供應商,不斷提供具有價值且高度整合方案給全球半導體廠商。GIGAPHOTON從研究開發以至製造・銷售・保修服務的所有環節,將承諾秉持著客戶導向的精神,堅持業界最高水準的技術服務持續邁進。詳細資訊請參閱網站https://www.gigaphoton.com/ct/

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