GT40A

支援 65nm 或更新技術節點的新產品--4 kHz ArF 準分子雷射裝置

GT40A

本裝置為世界首創採用注入鎖定技術的曝光裝置用光源機種,讓以往認為兩難的狹隘頻譜與高輸出功率得以並存。且因發射低峰值脈衝能量減輕對光學系統的傷害,所抑制的經常成本達到業界頂尖等級。此外,除搭載新開發的高階自我診斷功能(self diagnosis)外,更大幅改善模組更換性等服務性,達成高可靠性、高稼動率。


特色

1. 注入鎖定(Injection-locked)雷射
領先業界首次將注入鎖定技術(*)導入量產機種,可達 45 W 的高輸出功率,能高穩定發射半寬度達 0.2 pm、E95 達 0.5 pm 的頻譜線寬 DUV 雷射光,為業界頂級水準。並且實現了低峰值脈衝能量,減輕對雷射以及曝光裝置光學系統的傷害。

(*)注入鎖定技術是將調整為極窄頻譜寬度發射的低功率雷射光(Master),注入高輸出功率的雷射共振器(Amplifier),經過雷射共振增幅,令以往認為窒礙難行的狹隘頻譜與高輸出功率得以並存的技術。

2. 業界頂級的低經常成本
注入鎖定技術能減少對雷射光學零件的負擔,更因系統結構精緻化,大幅減低耗材(模組)的種類及更換頻率。以結果而言,實現了業界頂級的低經常成本。

3. 高可靠性、高稼動性設計
除了新開發的高階自我診斷功能(self diagnosis)外,更大幅改善模組更換性等服務性,達到半導體工廠所需的高可靠性、高稼動率。

主要規格*
發射波長 193 nm
平均輸出功率 45 W
脈衝能量 11.25 mj
發射頻率 4,000 Hz
頻譜線寬(FWHM) 0.2 pm
譜頻幅度(以 95 %能量累計,E95) 0.5 pm
(*) 上述各規格值為代表值