GT63A

浸潤多重曝影裝置專用次世代 ArF 準分子雷射設備「GT63A」

GT63A

GT63A 為 GT 系列最新機種,採用注入鎖定方式,即所謂第五代 GT(GigaTwin)平台。
GT63A 系列投入可實現廣聚焦深度的頻譜控制技術(sMPL) *1)、可達到低經常成本的共振腔技術(sGRYCOS)、可完成高稼動率的氣體控制技術(sTGM)、可達成高穩定性的監控技術(sMONITORING)等四大「s」系列功能,憑藉尖端技術為客戶更創價值、因應信賴。
GT 系列獲得全球各國主要客戶大量採購,其設計構思、可靠性均獲高度評價。
GT63A 的平台設計與既有的 GT 系列系出同門,尋求極限共用化,對使用者而言,從裝置導入起便能期待高度可靠性。


GT63A的特色:四大「s」系列功能

1. sMPL

sMPL(頻譜多重定位 LNM;Spectrum Multi Positioning LNM)技術可提高頻譜控制頻寬至既有 10 倍以上,達成以雷射聚焦鑽孔確保廣泛聚焦深度之功能。搭載 sMPL 技術後,既有技術難以執行的接點、溝槽、通孔等曝光中放大製程視窗工作,可於不導致 CDU、疊合、生產性惡劣影響下完成。且 sMPL 經曝光裝置製造商、晶片製造商共同進行量產試驗,有效性已獲明證。

2. sGRYCOS

sGRYCOS(60 GIGAPHOTON 回收共振腔操作系統;Sixty Gigaphoton Recycled Chamber Operation System)技術將準分子雷射主要更換零件壽命提高至既有的 1.5 倍,達到低經常成本的需求。提高符合 sGRYCOS 需求全新開發的共振腔預電離強度,加以 GT 系列搭載了行有餘力的脈衝功率電源,能提升能量極限,達到耐久性較既有產品大幅提高的成果。

3. sTGM

sTGM(極致氣體總量管理;Supreme Total Gas Manager)技術在波長校正方式上下功夫,免去了既有機種每 2 週需更換一次雷射氣體的困擾,達成高稼働率與低成本運轉目的。GT 系列培養而成的氣體控制技術,可一面回饋效能,一面確保雷射共振腔內最佳氣體狀態。本次更藉由專為 sTGM 新開發的絕對波長校正模組,排除原先絕對波長校正時更換氣體的必要性,兼具停機時間縮減與氣體成本降低的優點。

4. sMONITORING

sMONITORING(智慧監控;Smart Monitoring)技術為線上即時監控雷射效能功能,亦可連接客戶既有之 FDC(故障偵測與分類;Fault Detection and Classification)系統,為裝置穩定稼動做出貢獻。

主要規格*

發射波長 193 nm
平均輸出功率 60/90 W
脈衝能量 10.0/15.0 mJ
發射頻率 6,000 Hz
譜頻幅度(以 95 %能量累計,E95) 0.3 pm
(*) 上述各規格值為代表值