GT64A

支援 450mm 晶圓多重曝影裝置先進的 ArF 準分子雷射裝置

GT64A

GT64A 稟持「減低環境負擔」的理念,以極盡壓縮的總操作成本實現世界最高等級的 120W 高輸出功率、高發光性能以及穩定性。
為了追求性能與效率最大化以成為客戶半導體量產體制的後盾,GT64A 採用注入鎖定方式,即所謂第六代 GT(GigaTwin)平台。
繼承 GT 平台優異的雙腔結構、輸出控制演算以及光束定位科技,並且達到 120W 高輸出功率、高發光性與穩定性,為您提供全球頂級的可靠性、復原時間以及模組壽命。同時因應客戶對於 ArF 準分子雷射裝置的性能提升、刪減總操作成本的需求。


特色

1. 全球頂級效率以及 120W 大輸出功率
GT64A 採用注入鎖定方式,達到全球頂級雷射激發效率,更以此為基礎,於 450mm 晶圓多重曝影方面亦實現保證高產量的 120W 大功率。

2. 自動可變輸出
輸出支援自動可變,可因應客戶製程,供應最適宜的發光量。此外,本功能可避免激發無謂的雷射光,對於降低經常成本、減低環境負擔亦可見效。

3. 雷射光束高穩定性
為求實現多重曝影最為重要的多重疊合精密度(Overlay)、控制臨界尺度以及減低光阻邊緣粗糙度(LER),於所有輸出區域達成高穩定性(能量、頻譜、光束形狀)與長脈衝頻寬。

4. 低環境負擔
將開發理念定為「減低環境負擔」,極度抑制電力、氣體、冷卻源等設備成本,並獲得成功。不僅降低了總操作成本,更符合社會潮流,抑制對環境的負面影響。


主要規格*
發射波長 193 nm
平均輸出功率 60 - 120 W
脈衝能量 10.0 - 20.0 mJ
發射頻率 6,000 Hz
譜頻幅度(以 95 %能量累計,E95) 0.25 pm
(*) 上述各規格值為代表值