GT65A

支援Sub 10nm技術節點專用浸潤曝光機,有助提升生產性的ArF準分子雷射裝置

相當於第七代採用注入鎖定技術平台的GT65A機種,導入頂尖技術,以可變頻寬(E95)及穩定性提升帶來的「曝影性能改善」、模組延壽帶來的「高運轉率」、無氦帶來的「減輕環境負擔」,進一步為客戶實現生產性(晶圓產出)的提升。


特色

1. 可變頻寬(E95)
頻寬可配合客戶端各種條件、用途,進行變更。在使用上,可藉由頻寬對不同世代曝光機之間的對比差異進行補正即為一例。此外,亦可透過頻寬可變功能取得OPC特性裝置之間或光罩之間的整合1
*1)功能隨連接的曝光機不同而異。

2. 提升頻寬(E95)穩定性
本機種成功實現了既有機種20倍的頻寬控制速度。這項特色將使裝置運轉期間的頻寬更加穩定,減少臨界尺度錯誤的發生。

3. 模組延壽
主要模組使用壽命獲得延長,進一步地降低了維修頻率。這項特色將使裝置因應更長期間的運轉。

4. 無氦
本機種導入了ArF準分子雷射運轉所需氦氣用量為0的技術。這項特色將為客戶撙節成本,並有助於減輕環境的負擔。


主要規格*
發射波長 193 nm
平均輸出功率 ≥60 W
脈衝能量 10.0 - 20.0 mJ
發射頻率 6,000 Hz
譜頻幅度(以 95 %能量累計,E95) 0.20 – 0.45 pm
(*) 上述各規格值為代表值