G10K

支援 0.25 μm~0.18 μm 設計規則的 1 kHz 準分子雷射裝置

G10K

準分子雷射因使用氟氣、高壓放電、深紫外光等化學反應強烈的要素,如何同時達成穩定性與耐久性是最大的技術課題。而除了上述功能外,曝光用準分子雷射更要求出光的單色性及輸出能量均衡性。

G10K 是首度解決前述難題的準分子雷射設備,自 1997 年推出以來,以其劃時代性穩定稼動與性能廣受微影光源市場的好評,目前仍活躍於生產現場。


主要特色

  • 穩定激發與高度耐久性,達到高稼動率與經濟性
  • 以獨家 RF 預電離方式、全新開發的高電壓脈衝電源,大幅改善發射穩定性並大幅提升耐久性能
  • 不但讓各結構模組性能遊刃有餘,並以貫徹所有零件、製程的品質保證體制確保產品高度可靠性。

主要規格*

發射波長 248 nm
平均輸出功率 10 W
脈衝能量 10.0 mj
發射頻率 1,000 Hz
譜頻幅度(FWHM) 0.6 pm
譜頻幅度(以 95 %能量累計,E95) 2.0 pm
累計能量安定性 0.5 %
(*) 上述各規格值為代表值