G60K

實現既有能力150%的高輸出,以滿足未來更高輸出要求的KrF曝光專用光源

G60K
 
沿襲Gigaphoton長年累積的產品技術經驗的KrF光源技術為基礎,支持每小時300片以上掃描光刻處理量的KrF曝光用光源G60K,可提供既有能力的150%的輸出,並透過延長模組壽命至200%以改善可用性。此外,透過新開發的電源和模組,備有因應未來高輸出所需高頻率效能的擴展性,支持日後KrF曝光技術的需求。此外,透過標準配備無氦氣技術,有助於減少気体的消耗量。


主要特點

  1. 支持每小時300片掃描光刻機處理量的高輸出
    引進新型電源供應裝置,而得以實現往常150%的60W輸出。藉此,即使在厚膜光刻膠等低靈敏度光刻膠中,也能抑制處理量損失,進而提升生產力。
  2. 承襲已具實際成果的99.9%以上可用性支援技術
    現場上的可用性和效能穩定性皆高而備受客戶所肯定,以G41K技術為基礎的機種,實現在所有輸出領域中99.9%以上的可用性。再者,透過投入新技術,將模組壽命延長至200%,從而提升可用性。
  3. 提供可持續發展解決方案
    標準配備無氦氣技術的光源,除了為稀有氣體供應不足風險做好準備之外,還採用減少気体等公用設施消耗量的環保技術。

主要規格*
振盪波長 248 nm
輸出 40W - 60W
脈衝能量 10mJ - 15mJ
振盪頻率 4000Hz
特點 Continuous Reliability Improvement (CRI) Package
可持續發展解決方案
・Helium Free Operation
・TGM Gas Management
(*) 上述各規格值為代表值