• 公司資訊
  • 公司簡介
  • 營運實績與預估
  • 公司歷史
  • 經營團隊
  • 所在地地圖
• CSR
• 隱私權政策
• 產品
  • 半導體微影用準分子雷射
    • ArF Immersion
    • ArF Dry
    • KrF
  • 其他
    • GIGANEX Series
• 個資保護活動
• Customer Portal
  • Dashboard
  • Customer Downloads
  • Forums
  • Tools
    • Power & Gas
    • Laser Usage Snapshot
  • Announcements
  • Settings
• 品質
  • 最尖端工廠
  • G能塾(Gino Juku)
  • 提升可靠度
• 客戶支援
  • 維修
  • 遠端裝置資料管理（REDeeM）之活用
  • 訓練
• 技術資訊
  • 何謂雷射
    • 1. 何謂雷射
    • 2. 何謂準分子雷射
  • GigaTwin Platform
    • 1. 注入鎖定（Injection-locked）技術
    • 2. 注入鎖定的優勢
    • 3. 注入鎖定方式的課題
    • 4. 雙腔（Twin Chamber）系統 共用平台
  • E95與微影製程
    • 1. 概要
    • 2. E95 之定義與影響
    • 3. E95 與 k1 因數之關連性
    • 4. 改善 E95 的穩定性
    • 5. E95 性能變化引發的偏差
  • Bandwidth Control Module
    • 1. 概要
    • 2. BCM 的原理及結構
    • 3. 載入實際機台的頻譜性能
    • 4. sMPL（頻譜多重定位 LNM；Spectrum Multi-Positioning LNM）技術
  • EUV 專題
    • 1. 何謂 EUV 微影？
    • 2. 全球 EUV 微影動向
  • 雷射退火
    • 1. 雷射退火
    • 2. 製造液晶用的雷射退火的課題
  • Technical Paper
• 諮詢窗口
• 相關連結
• FAQ
• 網站地圖