網站地圖 公司資訊 公司簡介 營運實績與預估 公司歷史 經營團隊 所在地地圖 隱私權政策 產品 半導體微影用準分子雷射 ArF Immersion ArF Dry KrF 其他 GIGANEX Series 品質 最尖端工廠 G能塾(Gino Juku) 提升可靠度 個資保護活動 Customer Portal Dashboard Customer Downloads Forums Tools Power & Gas Laser Usage Snapshot Announcements Settings 客戶支援 維修 遠端裝置資料管理(REDeeM)之活用 訓練 技術資訊 何謂雷射 1. 何謂雷射 2. 何謂準分子雷射 GigaTwin Platform 1. 注入鎖定(Injection-locked)技術 2. 注入鎖定的優勢 3. 注入鎖定方式的課題 4. 雙腔(Twin Chamber)系統 共用平台 E95與微影製程 1. 概要 2. E95 之定義與影響 3. E95 與 k1 因數之關連性 4. 改善 E95 的穩定性 5. E95 性能變化引發的偏差 Bandwidth Control Module 1. 概要 2. BCM 的原理及結構 3. 載入實際機台的頻譜性能 4. sMPL(頻譜多重定位 LNM;Spectrum Multi-Positioning LNM)技術 EUV 專題 1. 何謂 EUV 微影? 2. 全球 EUV 微影動向 雷射退火 顯示面板的激光退火 Technical Paper 諮詢窗口 相關連結 FAQ 網站地圖