2. 何謂準分子雷射

使用稀有氣體和鹵素等的混合氣體作為介質,利用脈衝放電進行激發的氣態雷射。具代表性的例子有能以高強度放出深紫外(DUV)線的氟氬(ArF)準分子雷射(波長193nm)、氟氪(KrF)準分子雷射(波長248nm)、以及XeCl準分子雷射(波長308nm)、XeF準分子雷射(波長351nm)等。

準分子雷射在紫外線領域雷射中,具有優異的高震盪效率、以及裝置體積相對小型的特性,因此最適合作為需要高解析度之最尖端半導體曝光裝置使用,同時亦被廣泛應用於工業和醫療(用於LASIK等視力矯正手術)等各種領域。

 
準分子激光器在工業領域的應用例

準分子雷射散發的紫外光,擁有高光子能量以及非常高的尖峰功率,非常具有魅力,因此各個工業領域都在進行這種強烈光線的應用研究。舉例來說,像是雕刻CO2雷射和YAG雷射所無法應付的材料、高分子膜和半導體薄膜等的剝離加工、鐵氟龍等樹脂的表面改質、摻雜或沉積等半導體製造過程的應用,以及TSV的穿孔等。
(最成功的例子之一是GIGAPHOTON製造的用於半導體製造曝光的光源。)

此外,近年來伴隨著液晶的高度精細化,製造液晶用的雷射退火也受到矚目。這在製造多結晶低溫多晶矽(LTPS=Low Temperature Poly-silicon)的過程中,是不可或缺的工序。