OYAMA, JAPAN; December 5, 2011 — Gigaphoton Inc., a major lithography light source manufacturer, announced today that the company has shipped its 1,000th excimer laser for semiconductor photolithography.

Gigaphoton’s predecessor, Komatsu, marketed Japan’s first excimer laser (KLE-630) in 1985, followed by the world’s first excimer laser for semiconductor photolithography (KLE-630S) in 1987. Since then, Gigaphoton has been developing and marketing excimer laser units that pursue finer resolution, higher throughput and lower running cost in order to meet the high expectations of the semiconductor market.

Gigaphoton’s next-generation ArF excimer laser for multi-patterning immersion lithography scanners, the GT63A series, was created in response to customers’ needs to create added value by incorporating the four powerful “s” series features: “sGRYCOS” (Sixty Gigaphoton Recycled Chamber Operation System), a unique chamber technology for achieving lower running cost; “sTGM” (Supreme Total Gas Manager), a gas management system for achieving higher uptime; “sMPL” (Spectrum Multi-Positioning LNM) *1), a spectrum control (or “focus drilling”) technology for achieving wider depth of focus; and “sMONITORING” (Smart Monitoring), a monitoring technology for achieving higher stability. These “s” series features can be incorporated into existing GT60A *2),GT61A, and GT62A series units to customize them according to the needs of each customer, given their common platform with the GT63A series.

The sGRYCOS technology extends the effective life of the laser chamber, one of the main consumable components of an excimer laser, to 1.5 times longer than a conventional chamber. This best-in-class standard has a 60 billion pulse lifetime. The sTGM technology eliminates the previous need to routinely replace the laser chamber’s gas ― by implementing an innovative wavelength calibration method. This new industry standard eliminates wasted gas, reduces facility costs and improves laser availability. The recently proven sMPL technology for focus drilling increases laser spectrum control width to 10 times wider than the conventional one, ensuring a wider depth of focus. This creates new options for advanced process development in both the logic and memory markets. Finally, sMONITORING technology enhances existing real-time monitoring of laser performance and can be connected with the user’s FDC (Fault Detection and Classification) system to ensure stable operation.

“Gigaphoton’s excimer lasers have reached a milestone of 1,000 units shipped. This accomplishment is proof that the market has approved our excellence in product development and product support, as well as the result of the long-term support and trust of our customers. Gigaphoton’s rapid growth over the past 3 years is especially gratifying, so, I’d like to extend a special thank you to our customers. We at Gigaphoton will continue to respond to the trust of our customers with our leading-edge technologies and support forces,” said Dr Yuji Watanabe, president of Gigaphoton.

About Gigaphoton
Since its founding in 2000, Gigaphoton has developed and delivered user-friendly, high-performance DUV laser light sources used at major semi-conductor chipmakers in the Pan-Asian, US and European regions.
Gigaphoton’s patented, innovative LPP EUV technology solutions will lead the way to cost-effective, highly productive lithography sources for high-volume production. With a global business outlook, Gigaphoton strives to be the world’s number-one lithography light source provider, focusing on end-user needs in every phase of its business, from research and development to manufacturing to best-in-class reliability and world-class customer support.

*1) sMPL is provided as an option.
*2) sGRYCOS is not available for the GT60A series.

 

Company Contacts:
Yuichi Takabayashi

Gigaphoton, Inc.
Tel: +81-285-28-8410
Fax: +81-285-28-8439
E-mail: yuichi_takabayashi@gigaphoton.com

Yutaka Katsuki
Gigaphoton, Inc.
Tel: +81-285-28-8415
Fax: +81-285-28-8439

E-mail: sales@gigaphoton.comギガフォトン株式会社(本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、www.gigaphoton.com)は、露光用エキシマレーザ製品シリーズの出荷台数が、累計1,000台に達したと発表しました。ギガフォトン は、その前身であるコマツにて1985年に日本初のエキシマレーザ装置KLE-630を発売し、1987年には世界初の露光用エキシマレーザKLE-630Sを発売しました。 以来、市場の高い期待に応え、高精細・高スループット・低ランニングコストを追求した露光用エキシマレーザを次々と発売してきました。

マルチパターニング用液浸露光装置に向けた次世代 のArFエキシマレーザGT63 Aシリーズでは、低ランニングコストを実現するチャンバ技術(sGRYCOS)、高稼働率を実現するガス制御技術(sTGM)、広い焦点深度を実現するスペクトル制御技術(sMPL) *1)、高安定性を実現するモニタリング技術(sMONITORING)の、4つの”s”シリーズファンクションを投入し、高い技術でお客様への更なる価値を創造し、信頼に答えています。また、これら”s”シリーズファンクションは、GT63Aシリーズとプラットフォームを共通とする、GT60Aシリーズ*2)、GT61Aシリーズ、GT62Aシリーズにもアップグレードキットが適用可能であり、お客様のご要望に応じたカスタマイズを可能としています。

sGRYCOS(Sixty Gigaphoton Recycled Chamber Operation System)技術は、エキシマレーザの主要な交換部品であるチャンバの寿命を従来の1.5倍に高め、低ランニングコストを実現します。sTGM(Supreme Total Gas Manager)技術は、波長較正方式に工夫をこらし、従来2週間に一度必要であったレーザガスの交換を不要とする事で、高稼働率を実現します。sMPL(Spectrum Multi Positioning LNM)技術は、スペクトル制御幅を従来の10倍以上に高め、フォーカスドリリングによる広い焦点深度確保を実現します。sMONITORING(Smart Monitoring)技術は、オンラインでリアルタイムにレーザのパフォーマンスをモニタする機能で、お客様のFDC(Fault Detection and Classification)システムにも接続可能であり、装置の安定稼働に貢献します。

ギガフォトン代表取締役社長の渡辺裕司はこうコメントしています。「当社の露光用エキシマレーザの出荷台数 通算1,000台達成 は、当社の製品開発力およびサポート力が市場で評価されたものであると同時に、長年に渡るお客様の当社に対するご支援 とご信頼の賜物であり、改めて 感謝申し上げます。当社 は、今後も高い技術とサポート力でお客様の信頼に答えていきます。」

*1)sMPLはオプションです。
*2)sGRYCOSの設定はありません。

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ギガフォトン株式会社(www.gigaphoton.com)は2000年の設立以来、世界トップクラスの露光用エキシマレーザメーカーとして、日本を含むアジア市場、欧米市場の大手半導体メーカー各社に製品が採用されています。又、次世代のリソグラフィ技術として注目されているEUV光源に関しても、ギガフォトンの革新的な独自技術「LPP EUV」ソリューションは、次世代デバイスの量産での低コスト化、高生産化を実現する技術として、世界中の半導体メーカーから高い注目を集めています。ギガフォトンは、世界一のリソグラフィ光源メーカーを目指し、研究開発から製造・顧客サポートに至るすべての分野で常に顧客の要求に最優先で取り組んでいます。

社名、ロゴは、ギガフォトン株式会社の商標です。記載内容は予告なしに変更される場合があります。ギガフォトンは、プレスリリースの記載内容が将来の諸事由で変更された場合、内容の更新または訂正発表する責任を持ちません。©2011 ギガフォトン

報道関係者お問合せ先
ギガフォトン株式会社 経営企画部 高林 有一
TEL: 0285-28-8410
Email: yuichi_takabayashi@gigaphoton.com

記事掲載時の連絡先
ギガフォトン株式会社 営業部 香月 裕
TEL: 0285-28-8415
sales@gigaphoton.com
http://www.gigaphoton.com/