Oyama, Japan, February 25, 2008 —  Gigaphoton Inc., a major lithography light source manufacturer for the global semiconductor industry, today announced the inaugural shipment of the GT62A, the newest addition to the company’s argon fluoride (ArF) excimer laser light source portfolio.  The first unit was delivered to a leading lithography tool manufacturer to support the introduction of its double-patterning immersion lithography tools, which have dramatically increased in demand.

In today’s advanced lithography processes, immersion lithography technology is beginning volume production at the 45-nm technology node.  Beyond that, double-patterning immersion lithography is considered to be the most promising technology—meeting the requirements associated with the next-generation 32-nm technology node.  This type of lithography tool requires high throughput and high uptime to enhance economic efficiency, as well as offer high resolution capabilities.  The GT62A has an emission wavelength of 193-nm, an output of 90 W and a repetition rate of 6,000 Hz.

“We successfully introduced and delivered the first unit of the GT62A in a 60-watt version to meet the specifications of one of our customers,” commented Dr. Yuji Watanabe, president and representative director of Gigaphoton, Inc.  “Now, by using the design concept for the GT platform, the GT62A can be upgraded to 90 watts, ensuring high product reliability and flexible solutions for our customers.”

Introduced in December 2007, the GT62A achieves high output and high uptime while incurring great reduction in the maintenance time and operating cost.  Additionally, the GT62A features an improved laser chamber and consumables life, such as optics.  The tool’s technology allows for minimal down time—enabling the most advanced processing with less economical risk.

The GT series has already been accepted by major users in the global semiconductor industry with 40-percent* world market share for immersion lithography light sources.  Overall, the GT platform has made a great contribution to the productivity and enhancement of leading-edge semiconductor manufacturing fabs around the world.

* Based on the number of units sold in 2007, independent research by Gigaphoton Inc.

Key Features of the GT62A

• Newly developed power supply, allowing an output of 90-Watts (a 50% improvement compared to the GT61A)
• Light source is mounted with a technology to take measures against heat loads
• Reliable performance
• To provide a stabilized spectrum, the GT62A comes standard with Gigaphoton’s original
  “Bandwidth Control Module (BCM)” technology
• To meet a variety of customer needs, a 60-Watt version is also available

About Gigaphoton
Gigaphoton, Inc. was founded in 2000 as a joint venture of Komatsu Ltd., the world’s No. 2 construction machinery manufacturer, and Ushio Inc., the world’s No. 1 lithography lamp manufacturer.  Since then, Gigaphoton has been developing and marketing user-friendly, highly innovative laser light sources that make a great contribution to lithography technology so as to meet the stringent requirements of the ultra-fine circuit patterns of the gigabit era, and is delivering them to major lithography tool suppliers in the global semiconductor industry.  As the No. 2 excimer laser light source manufacturer in the world, Gigaphoton holds a strong position in the Asian market, including Japan, while continuing to enjoy rapid growth in the U.S. and European markets.  More information about Gigaphoton can be found on the company’s website at http://www.gigaphoton.com.

The company name, logo, and designations GT40A, GT60A and GT61A are trademarks of Gigaphoton, Inc.  The content of this release may be revised without prior notice.  Gigaphoton shall not be liable for updating or announcing a correction if the content of this release is changed for any reason in the future.
©2008 Gigaphoton.

###

ギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/ ）は、液浸の二重露光(ダブルパターニング)に対応した露光装置用の光源として、インジェクションロック技術を搭載したArF（フッ化アルゴン）エキシマレーザの新製品「GT62A」（発振波長: 193 nm、最大出力: 90ワット、発振周波数: 6,000 Hz）の出荷を開始したと発表しました。初号機はすでに同社顧客である露光機メーカーに納入されており、ニーズが高まる液浸二重露光装置の導入をサポートしています。

今日の最先端半導体リソグラフィプロセスでは、45nmノードに対応する液浸リソグラフィ技術が量産に適用されつつあります。同時に次世代の32nmノードについては、液浸のダブルパターニングが最有力候補とされています。液浸ダブルパターニングの装置では露光の解像性能に加えて、経済性を高める観点から高スループット、高稼働率が求められます。

GT62Aは高出力・高稼働率と同時に、メンテナンス時間・運転コストの低減を実現した製品です。既に、市場で高い信頼性が確認されているGTシリーズプラットフォーム上に設計されているため、導入当初から高い信頼性が実現できます。またチャンバーや光学部品などの消耗品の長寿命化技術、およびダウンタイムを最小にするギガフォトン独自の技術が搭載されており、経済面からも最先端プロセスの導入を支えます。GTシリーズはすでに各国の主要ユーザーに受け入れられており、液浸リソグラフィ用光源で4割のシェア（注）を持ち、世界の最先端工場の生産性向上に大きく寄与しています。

GT62Aの出荷開始に関して、ギガフォトン社長の渡辺裕司はこうコメントしています。「従来通りの高い製品信頼性をしっかり確保しながら、次世代の光源をいち早く市場に投入することができました。初号機はお客様の仕様にあわせて60Wで出荷しましたが、必要が生じればフィールドで再び90Wに変更可能です。GTプラットフォームの拡張性や設計思想が柔軟なソリューション提供を可能にしています」

GT62Aの特長 
1.高出力・高安定性
新開発の電源を採用することにより、60ワットのGT61Aと比較して50%の向上を達成し、90ワットの高出力を実現しました。高出力化に伴って増大する熱負荷への対策技術、新開発の高耐久性の光学素子を搭載しており、高出力運転時にも性能の安定性が確保されています。また、ギガフォトン独自の技術であるBCM(Bandwidth Control Module）を標準装備しており、安定したスペクトルを提供します。
また、さまざまな顧客ニーズに対応するため、60ワット出力の仕様もラインナップしました。これにより導入当初はコストを抑えながら60ワット出力で運転を続け、将来必要になった時点で90ワットにアップグレードすることが可能となり、最適なタイミングで必要な投資をしながらご使用いただけます。

2.コスト・ダウンタイムの削減
半導体製造装置は飛躍的なスピードで高性能化に加えて高スループット化が進んでいます。このような製造装置を最大限の稼働率で運転することがお客様の工場の生産性を高めることにつながると考え、ギガフォトンは長年に亘りあらゆる面からレーザの高稼働率を達成・維持するための活動を継続してきました。
GT62Aにはその最新の技術が標準で搭載されています。例えばレーザチャンバ交換によるダウンタイムとコストを削減する技術、ガス交換によるダウンタイムを従来の10分の1にまで削減する技術などが挙げられます。

注) 2007年の年間販売台数。ギガフォトン独自調査による。

###

ギガフォトン株式会社は2000年、世界2位の建設機械メーカー「コマツ」と、世界最大手の露光用ランプ・メーカー「ウシオ電機株式会社」の合弁会社として発足しました。以来、世界に先がけて次々と半導体リソグラフィ装置向け最新鋭エキシマレーザを製品化し、ギガビット世代の超微細集積回路に対応するリソグラフィ技術の発展に貢献しています。ギガフォトンは、世界2位の露光用エキシマレーザメーカーとして、日本を含むアジア市場ではほとんど全ての半導体メーカーで製品が使用されているほか、欧米市場でも急成長を続けています。

社名、ロゴは、株式会社ギガフォトンの商標です。記載内容は予告なしに変更される場合があります。ギガフォトンは、プレスリリースの記載内容が将来の諸事由で変更された場合、内容の更新または訂正発表する責任を持ちません。©2007 ギガフォトン

報道関係者お問合せ先
ギガフォトン株式会社　総務部　佐藤 日出一
TEL: 0285-28-8410　Email: hideichi_satou@gigaphoton.com

記事掲載時の連絡先
ギガフォトン株式会社　第一営業部　松井 優達
TEL: 0285-28-8415　Email: sales@gigaphoton.com
http://www.gigaphoton.com/