経営実績・予測


ギガフォトンは、2004年、インジェクションロック技術を採用した、ツインチャンバの量産型ArFエキシマレーザを世界に先がけて製品化し て以来、液浸露光・ダブルパターニング露光等の最新リソグラフィー技術に対応した最新型ArFエキシマレーザを次々と市場に供給してきまし た。 今日、世界の主要な半導体メーカーのほぼ全てにおいて当社製品が使用されており、2014年の世界市場でのレーザ本体販売マーケットシェアは50% を上回りました(当社調べ)。

次世代露光技術開発に取り組む

ギガフォトンは、次世代露光技術として有力な極端紫外線(EUV)光源の開発にも積極的に取り組んでいます。2002年から2010年の間、技術研究組合極端紫外線露光システム技術開発機構(Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association: EUVA))の発足メンバーとして露光用光源の開発において重要な役割を担いました。ギガフォトンは、ターゲットにパルスレーザを照射して発生する高温プラズマからEUV放射光を生成するレーザ生成プラズマ(Laser Produced Plasma: LPP)方式を採用したEUV光源を開発しています。現在、量産機の開発段階にあり、着々と成果を上げております。